Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

baş səhifə
Biz haqqında
MH Texnikası
Həll
Dünya Genişləndən İstifadəçilər
Video
Əlaqə
Ev> PVD CVD ALD RIE ICP EBEAM
  • Induktiv Qoşulmuş Plazma Etçilma Sistemi ( ICP ) Semikonduktor texnikası
  • Induktiv Qoşulmuş Plazma Etçilma Sistemi ( ICP ) Semikonduktor texnikası
  • Induktiv Qoşulmuş Plazma Etçilma Sistemi ( ICP ) Semikonduktor texnikası
  • Induktiv Qoşulmuş Plazma Etçilma Sistemi ( ICP ) Semikonduktor texnikası
  • Induktiv Qoşulmuş Plazma Etçilma Sistemi ( ICP ) Semikonduktor texnikası
  • Induktiv Qoşulmuş Plazma Etçilma Sistemi ( ICP ) Semikonduktor texnikası
  • Induktiv Qoşulmuş Plazma Etçilma Sistemi ( ICP ) Semikonduktor texnikası
  • Induktiv Qoşulmuş Plazma Etçilma Sistemi ( ICP ) Semikonduktor texnikası
  • Induktiv Qoşulmuş Plazma Etçilma Sistemi ( ICP ) Semikonduktor texnikası
  • Induktiv Qoşulmuş Plazma Etçilma Sistemi ( ICP ) Semikonduktor texnikası
  • Induktiv Qoşulmuş Plazma Etçilma Sistemi ( ICP ) Semikonduktor texnikası
  • Induktiv Qoşulmuş Plazma Etçilma Sistemi ( ICP ) Semikonduktor texnikası

Induktiv Qoşulmuş Plazma Etçilma Sistemi ( ICP ) Semikonduktor texnikası

Məhsul Təsviri
Induktiv qoşulma plazma etçiləmə (icp) sistemi
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment details
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment supplier
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment factory
Proses nəticəsi

Kristall-kvarts / silikon / qrat etçiləmə

BR maskası ilə kristall-kvarts və ya silikon materiallarının etçilənməsindən sonra qrat massivi şablonu 300nm-ə qədər inkişaf edir və bu şablonun yan səhifələri > 89°-ə yaxın olur, bu da 3D displey, mikro optik cihazlar, fotoelektronika kommunikasiyasına və s. tətbiq edilə bilər
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment factory

Birləşmiş / semiconductor etçiləmə

Nümunə səthinin temperaturasının doğru idarə edilməsi, GaN əsaslı, GaAs, InP və metal materiallarının etçilənən morfologiyasını yaxşı şəkildə idarə edə bilər. Bu, mavi LED qurğuları, lazerlər, optik kommunikasiya və digər tətbiqlər üçün uyğun dur.
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment manufacture

Silikon əsaslı materialın etçilmesi

Bu, Si, SiO2 və SiNx kimi silikon əsaslı materialların etçiləndirməsi üçün uyğundur. 50nm-dən böyük silikon xəttinin və 100µm-dən aşağı silikonun günbələğinə etçiləndirməsini realiz etmək olar.
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment factory
Speksifikasiya
Proyekt konfigurasiyası və maşın struktur şəkli
Məhsul
MD150S-ICP
MD200S-ICP
MD150CS-ICP
MD200CS-ICP
MD300C-ICP
Məhsulun ölçüsü
≤6 inc
≤8 inc
≤6 inc
≤8 inc
Gömrük≥12inci
SRF Enerji mənbəyi
0~1000W/2000W/3000W/5000W Ayarlanır, avtomatik uyğunlaşdırma\,13.56MHz/27MHz
BRF Enerji mənbəyi
0~300W/0~500W/0~1000WAyarlanır, avtomatik uyğunlaşdırma,2MHz/13.56MHz
Molekulyar pompa
Korroziyaya qarşı: 600/1300 (L/s)/Gömrük
Korrozuya qarşı:600/1300 (L/s)/Gömrük
600/1300(L/s) /Gömrük
Əvvəlki pompa
Mekanik pompa / yuxarı pompa
Korroziasız yuxarı pompa
Mekanik pompa / yuxarı pompa
İlkin pomplama pompa
Mekanik pompa / yuxarı pompa
Mekanik pompa / yuxarı pompa
Proses basıncı
Nəzarətsiz basınç/0-0.1/1/10Torr nəzarətli basınç
Qaz Tipi
H2/CH4/O2/N2/Ar/SF6/CF4/
CHF3/C4F8/NF3/NH3/C2F6/Təyin edilən
(Ən çox 12 kanal, korroziv və zehirli qaz olmaması şarti ilə)
H2/CH4/O2/N2/Ar/SF6/CF4/CHF3/C4F8/NF3/NH3/C2F6/Cl2/BCl3/HBr/
Müştəri (Ən çox 12 kanal)
qaz aralığı
0~5sccm/50sccm/100sccm/200sccm/300sccm/500sccm/1000sccm/Müştəri
YüklüQapı
Bəli/Hayır
Bəli
Nümunə temperaturu idarəetməsi
10°C~Otaq temperaturu/-30°C~150°C /Müştəri
-30°C~200°C/Müştəri
Arxa helium soğutma
Bəli/Hayır
Bəli
Proses maşınçısı kaplama
Bəli/Hayır
Bəli
Maşınçısının divarları temperaturu idarəetməsi
Yox/Otaq temperaturu-60/120°C
Otaq temperaturu~60\/120°C
İdarəetmə Sistemi
Avtomatik/təyin edilmiş
Ətirəl material
Silikon-asos: Si\/SiO2\/
SiNx\/ SiC.....
Organik materiallar:PR\/Organik
filmler......
Silikon-asos: Si\/SiO2\/SiNx\/SiC
III-V: InP\/GaAs\/GaN......
IV-IV: SiC
II-VI: CdTe......
Magneyt material / alloy material
Metal materiallar: Ni/Cr/Al/Cu/Au...
Organik materiallar: PR/Organik filmler......
Silikonin derin etdirilməsi
Qablaşdırma və Çatdırılma
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment supplier
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment details
Şirkət Profili
Biz 16 il təcrübəyə malik equipment satışında dayandırıq. Sizə Çin dən One-stop Semikonduktor ildəm və arxa əlaqəli Paket Cəmiyyət xətti texniki həll təklif edə bilərik.
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment supplier

Sorğu

Sorğu Email WhatsApp Top
×

Əlaqəyə keçin