PECVD Plazma gücləndirilmiş kimyəvi buxar çökmə avadanlığı / Yüksək temperaturlu PECVD prosesi , Çin PECVD Plazma ilə gücləndirilmiş kimyəvi buxar çökmə avadanlığı / Yüksək temperaturlu PECVD prosesi İstehsalçılar, Təchizatçılar, Fabrika

Product Description

PECVD Plazma təkmilləşdirilmiş kimyəvi buxar çökdürmə avadanlığı

◆ Proses vaxtı, temperatur, qaz axını, klapan hərəkəti və reaksiya kamerasının təzyiqinə tam avtomatik nəzarət
sənaye kompüteri.
◆ İdxal təzyiqə nəzarət sistemi və qapalı dövrə sistemi yüksək sabitliyə malikdir.
◆ Qaz dövrəsinin hava sızdırmazlığını təmin etmək üçün xaricdən gətirilən korroziyaya davamlı paslanmayan polad boru fitinqləri və klapanlar istifadə olunur.
◆ Mükəmməl siqnalizasiya funksiyası və təhlükəsizlik bloklama cihazı var.
◆ Bu, ultra yüksək temperatur siqnalı və aşağı temperatur siqnalı, MFC həyəcan siqnalı, reaksiya kamerası təzyiq siqnalı, RF siqnalı, aşağı sıxılmış hava təzyiqi siqnalı, aşağı N2 təzyiq siqnalı və aşağı soyutma suyu axını siqnalına malikdir.
◆ Mövcud PECVD, təkmilləşdirildikdən sonra SiO2 filminin böyüməsi funksiyasına malikdir, bu da batareya modulunun PID problemini həll edir. SiNxOy filmi böyüdülə bilər (geri passivasiya prosesi), bu da batareyanın çevrilmə səmərəliliyini əhəmiyyətli dərəcədə yaxşılaşdıra bilər.

PECVD Plazma təkmilləşdirilmiş kimyəvi buxar çökmə avadanlığı / Yüksək temperaturlu PECVD prosesi təchizatçısı

PECVD Plazma təkmilləşdirilmiş kimyəvi buxar çökdürmə avadanlığı / Yüksək temperaturlu PECVD prosesinin təfərrüatları

PECVD Plazma təkmilləşdirilmiş kimyəvi buxar çökmə avadanlığı / Yüksək temperaturlu PECVD proses fabriki

növü

◆ Yükləmə miqdarı: 384 ədəd/qayıq (125 * 125); 336 ədəd / qayıq (156 * 156)
◆ Təmizləmə cədvəlinin təmizliyi: 100-cü dərəcəli (10000-cü dərəcəli bitki)
◆ Avtomatlaşdırma dərəcəsi: temperaturun və prosesin avtomatik idarə edilməsi.
◆ Çip göndərmə və götürmə rejimi: yumşaq eniş növü, sabit və etibarlı xüsusiyyətlərə malikdir, sürünməz, dəqiq yerləşdirmə, böyük daşıma qabiliyyəti və uzun xidmət müddəti.

spesifikasiya

Boru başına maksimum yükləmə	384 ədəd/qayıq（125125） 336 ədəd/qayıq（156156）
Proses indeksi	Tabletlərdə ± 3%, tabletlər arasında ± 3%, partiyalar arasında ± 3%
işləmə temperaturu	200 ~ 500 ℃
Temperatur zonasının dəqiqliyi və uzunluğu (statik qapalı boru testi)	1200mm±1℃
Qaz axınının dəqiqliyi	±% 1 FS
Hava dövrə sisteminin hava sızdırmazlığı	1×10-7Pa.m³/S
nəzarət	Tam idxal edilmiş avtomatik təzyiq qapalı dövrəli tənzimləmə sistemi, reaksiya vakuumuna dəqiq nəzarət; 40KHz yüksək tezlikli güc təchizatı; qayıq yumşaq eniş; Tam rəqəmsal nəzarət, mükəmməl və təhlükəsiz prosesə nəzarət mühafizəsi.
1 boru, 2 boru, 3 boru və 4 boru isteğe bağlıdır; Avtomatik yükləmə manipulyatoru isteğe bağlıdır və avadanlıq performansı və proses performansı dünyanın ən yaxşı oxşar avadanlıqları ilə müqayisə edilə bilər.

Qablaşdırma və Çatdırılma

PECVD Plazma təkmilləşdirilmiş kimyəvi buxar çökdürmə avadanlığı / Yüksək temperaturlu PECVD prosesinin istehsalı

Mallarınızın təhlükəsizliyini daha yaxşı təmin etmək üçün peşəkar, ekoloji cəhətdən təmiz, rahat və səmərəli qablaşdırma xidmətləri göstəriləcəkdir.

Profili

Avadanlıqların satışı üzrə 16 illik təcrübəmiz var. Biz sizə Çindən One-stop Semiconductor Front-end və Back end Package Line avadanlıqlarının peşəkar həllini təqdim edə bilərik.