Reaktiv ion etçilma sistemi RIE maşını RIE İstismar analizi , China Reaktiv ion etçilma sistemi RIE maşını RIE İstismar analizi Manufacturers, Suppliers, Factory

Məhsul Təsviri

Reaktiv ion etçiləri sistem

Reactive ion etching system RIE machine RIE Failure analysis supplier

Tətbiq

Pasiv qat: SiO2, SiNx
Arxa silikon
Əlavə qat: TaN
Dərindən çuxur: W

Xüsusiyyət

1. Dərələnmə qatının dərələnməsi ilə və ya olmadan;

2. Yataq katmenin etching-i;

3. Arxa silikon etching

Speksifikasiya

Proyekt konfigurasiyası və maşın struktur şəkli

Məhsul	MD150-RIE	MD200-RIE	MD200C-RIE
Məhsulun ölçüsü	≤6 inc	≤8 inc	≤8 inc
RF güc mənbəyi	0-300W/500W/1000W Ayarlanır, avtomatik uyğunlaşdırma
Molekulyar pompa	-/620(L/s)/1300(L/s)/Custom			Antiseptik620(L/s)/1300(L/s)/Custom
Əvvəlki pompa	Mekanik pompa/yuxarı pompa			Yuxarı pompa
Proses basıncı	Nəzarətsiz basınç/0-1Torr nəzarətli basınç
Qaz Tipi	H/CH4/O2/N2/Ar/SF6/CF4/ CHF3/C4F8/NF3/Custom (Ən çox 9 kanal, hər hansı kəsilməz və zehirli qaz yoxdur)			H2⁄CH4⁄O2⁄N2⁄Ar⁄F6⁄CF4⁄ CHF3⁄C4F8⁄NF3⁄Cl2⁄BCl3⁄HBr (Ən çox 9 kanal)
qaz aralığı	0~5sccm⁄50sccm⁄100sccm⁄200sccm⁄300sccm⁄500sccm⁄üzvləşdirilən
YüklüQapı	Bəli/Hayır			Bəli
Nümunə temperaturu idarəetməsi	10°C~Otaq temperatürünə⁄-30°C~100°C⁄Üzvləşdirilən			-30°C~100°C⁄Üzvləşdirilən
Arxa helium soğutma	Bəli/Hayır			Bəli
Proses maşınçısı kaplama	Bəli/Hayır			Bəli
Maşınçısının divarları temperaturu idarəetməsi	Yox/Dövri~60/120°C			Dövri temperatur-60/120°C
İdarəetmə Sistemi	Avtomatik/təyin edilmiş
Ətirəl material	Silikon əsaslı: Si/SiO2/SiNx. IV-IV: SiC Magnet material/alloy material Metal material: Ni/Cr/Al/Au. Organik material: PR/PMMA/HDMS/Organik qatqıcı.			Silikon əsaslı: Si/SiO2/SiNx. III-V (qeyd 3): InP/GaAs/GaN. IV-IV: SiC II-VI (qeyd 3): CdTe. Magnet material/alloy material Metal material: Ni/Cr/A1/Au. Organik material: PR/PMMA/HDMS/organik qatqı.

1. Çiplərin uçaqlanmasını önləmək
2. İşlənə biləcək minimum uzvlama: 14nm:
3. SiO2/SiNx etçilma sürəti: 50~150 nm/min;
4. Etçilmiş səthın cürəyliyi: 5. Passivasiya qatı, əlaqə qatı və arxa silikon etçilmasını dəstəkləmək;
6. Seçim nisbəti Cu/Al:>50
7. Bütöv makinə LxWxH: 1300mmX750mmX950mm
8. Bir kliklə işlətməyə imkan verir

Proses nəticəsi

Silikon əsaslı materialın etçilmesi

Silikon əsaslı materiallar, nano-imprint şablonları, massiv
şablonları və adətən lens şablonlarının etçilmesi

Reactive ion etching system RIE machine RIE Failure analysis factory

InP normal temperaturdakı etçilmesi

Optik kommunikasiya üçün istifadə olunan InP əsaslı cihazların, daxildən dalğa yolu strukturu, rezonans maqam strukturu şablonlarının etçilmesi.

SiC materialının etçilmesi

Mikrodalğalar üçün uyğun cihazlar, kraft cihazlar və s.

Reactive ion etching system RIE machine RIE Failure analysis details

Fiziki splattering, organik material etçilmesi

Ətirəz maddələrindən (məsə, bəzi metallar (məsə, Ni/Cr) və keramiklər) ətirəz prosesinə tətbiq edilir və
şablonlu ətirəz.

Bu cihaz fotoresist (PR)/PMMA/HDMS/polimer kimi organik birləşiklərin ətirəz və silinməsi üçün istifadə olunur

Xəta analizi nəticələrinin göstərişi

Reactive ion etching system RIE machine RIE Failure analysis manufacture

Məhsulun təfərrüatları

Qablaşdırma və Çatdırılma

qovma maşını

Şirkət Profili

Minder-High-tech Reaktiv İon Ətirəz (RIE) cihazı, fərqli növ materialları inanılmaz dəqiqlik ilə ətirə və analiz etməyə qabiliyyətə malik müxtəlif texnologiyaların ən yaxşı nümunəsidir. Bu cihaz, mikrofabrikasiya və ya ətirəz prosesi tələb olunan müxtəlif sənayələrdə istifadə üçün dizayn edilib. Cihaz, uzun ömürlü, güvəndirici və mühüm nəticələr almaq üçün yüksək keyfiyyətli materiallardan hazırlanmışdır.

RF plazma jeneratoru ilə donanmışdır və effektivdir. RIE sistemi, giriş benzinindən plazma yarada bilmək üçün induktiv bir bağlılıqdan istifadə edir. Bu texnikə, məhsul ilə əlaqəli olan qırılma dərəcəsini artırmaq üçün yüksək cəmiyyətli bir plazma yaradır. RIE üsulu ilə qırılma prosesi effektivdir, doğru və çox idarə edilirdi, beləliklə, xüsusi bir derinlik alınması mümkündür. Bu xüsusiyyət onu araşdırma və sənaye işləri üçün müthiş bir seçimdə edir.

Əməliyyat mərkəzi çoxlu, mikroelektronika, MEMS hazırlığı və polüsilikon hazırlığı jamiyyətlərindən ibarətdir. Bu əməliyyat mərkəzi silikon, gallium arsenid və germanium kimi polüsilikon materiallarının etçiləməsində və mikromexanikasında əhəmiyyətli rol oynayır. Minder-High-tech RIE quruluşu aksənliklə MEMS endustrisində poliimid, silikon dioksit və silikon nitrid kimi yumşaq və sert materialların hazırlığı üçün təmin edilib. Bundan əlavə, bu quruluş elektronik xidmətlər və məhsullarla bağlı endustrilərdə faylalı analiz üçün də mövcuddur.

Əsasən istifadə etmək asandır. Bu proqram təminatı istifadəçilər üçün dostdur və operatorun cihazda istifadə edilən yarım maddə parametrləri ilə tam idarə etməsinə imkan verir. Cihazın daxili yaddaşında 100-dən çox parametr quruluşu saxlanılır. Operatorun gaz hərəkəti, güc sıxışması və bədən kimi parametrləri təyin etməsinə imkan verən liks şərhlərinə sahibdir. Minder-High-tech RIE cihazı eyni zamanda materialların düzgün temperaturada yarım maddə olması və onlara zədə verilməsinə mane olan temperatur idarəetmə funksiyasına da malikdir.

Əmin və effektiv işləyən maşın tələb edən kompaniyalar üçün tamamilə uyğun dur. Bu cihaz yüksək səviyyəli texnologiya ilə dizayn edilib və çoxlu səviyyələrə malikdir. Onun ümumilikdən və istifadəçi dostu xüsusiyyətlərindən ötürü bu, fərqli sektorlarda araşdırma və endustriya tətbiqləri üçün çox yaxşı bir seçimdir.

Bu, makinanın mümkün olan en çabuq vaxtda hər hansı məkaniki problemləri aşkarlaya və düzəldə bilən effektiv bir xəta analiz sistemi də obur. Bu sistem, RIE maşınınsı dövrü boyunca yüksək keyfiyyət və güvəndiliksini saxlamağını təmin edir. Təxirəsiz və effektiv etçəm və ya mikrofabrikasiya tələb edən hər hansı sahə üçün Minder-High-tech RIE maşını ideal həll olur.

baş səhifə

Biz haqqında

MH Texnikası

Həll

Dünya Genişləndən İstifadəçilər

Video

Əlaqə