Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

Página de inicio
Acerca de Nosotros
MH Equipment
Solución
Usuarios en el extranjero
Video
Contáctenos

Etch back de fotoresist

Un proceso que utiliza productos químicos especiales para eliminar selectivamente la parte superior de un material llamado fotoresistente. El llamado fotoresistente es un material adhesivo activado por luz. Las propiedades alteradas del material fotosensible ofrecen la capacidad de formar formas y diseños únicos durante la exposición a la luz. De esta manera, podemos producir diseños legibles y de alta definición en la superficie de un dispositivo electrónico: información que necesita tener si va a funcionar.

Se aplica un agente de grabado durante el proceso de eliminación del fotoresistente. Cuando este agente de grabado entra en contacto con el material fotoresistente, básicamente come parte de la capa externa donde queremos conservar y eliminar nuestro patrón. Esto es útil en el caso de formas que tienen diferentes alturas como múltiples niveles. Esto nos permite construir diseños intrincados necesarios para alta tecnología.

Cómo la etch back de fotoresist mejora la fabricación de semiconductores

Existen varias ventajas clave al usar el proceso de etching de fotoresistente para aplicaciones electrónicas. Principalmente, crea trabajos de patrones extremadamente precisos. Dado que un error en uno de los patrones podría causar problemas en cómo opera un dispositivo, es importante que este paso sea muy preciso. Si los diseños están incluso un poco desalineados, provocarán que ninguno de los componentes del dispositivo funcione como se espera. Estos errores son mitigados por el proceso de etching de fotoresistente, que genera características precisas y exactas adecuadas para su implementación en wafer.

No solo esto aumenta la precisión, sino que también mejora una cosa llamada razón de aspecto. Razón de Aspecto: La razón de aspecto es la relación entre la altura y el ancho de un objeto. Si eliminamos cuidadosamente las capas de material de fotoresistente por encima, podemos aumentar su razón de aspecto sin dañar otras capas sucesivas. Esta evolución facilita la creación de formas aún más complejas necesarias para fabricar chips de próxima generación y otros dispositivos electrónicos.

Why choose Minder-Hightech Etch back de fotoresist?

Categorías de productos relacionados

¿No encuentras lo que buscas?
Contacte con nuestros asesores para conocer más productos disponibles.

Solicite una cotización ahora
Consulta Correo electrónico WhatsApp Top