Minder-Hightech es un fabricante de semiconductores. Los semiconductores son componentes críticos de gran parte de lo que hace posible la vida moderna, como los teléfonos móviles y las computadoras. Ahora bien, hay varios pasos en la creación de semiconductores, pero el primer paso es crear un patrón en una superficie plana conocida como un wafer.

Para representar este patrón, depositamos un material especial en el wafer. Esta sustancia se conoce como photoresist. Una vez que hemos colocado el photoresist, lo exponemos a la luz. Bajo la luz, una área del photoresist se endurece y se vuelve fuerte. Las áreas en sombra permanecen suaves y pueden ser eliminadas.

Después de obtener el patrón deseado en el wafer, el photoresist debe ser eliminado de las áreas donde realizaremos procesamiento adicional. Es aquí donde Plasma Cleaner entra en juego, literalmente.

Métodos basados en plasma para la eliminación de photoresist

El plasma es un estado de gas con un alto nivel de energía, debido a una alta carga eléctrica aplicada a él. Y este gas activado es altamente útil para eliminar la fotoresistencia en la superficie del wafer. A través del plasma, la fotoresistencia puede volverse frágil y su limpieza se vuelve mucho más fácil.

Tenemos dos técnicas diferentes que utilizan plasma para la eliminación de la fotoresistencia: el etchado seco y el cenizado.

El etchado seco: En esta técnica, el plasma interactúa directamente con la fotoresistencia. El plasma reacciona con la fotoresistencia donde entra en contacto. Esta reacción descompone la fotoresistencia y la convierte en gas. Esta sustancia gaseosa puede ser posteriormente limpiada de la superficie del wafer, exponiendo las áreas que necesitamos limpias y disponibles para continuar el proceso.

Ashing — Este es un método diferente para hacerlo, en este método se utiliza un plasma no reactivo para el photoresist. El plasma descompone el photoresist en pequeños fragmentos. Luego, estos fragmentos pueden ser lavados del wafer. Este enfoque es adecuado y protege el wafer mientras se elimina el photoresist innecesario.

El uso de plasma reactivo para la eliminación de photoresist

Tratamiento de Superficie por Plasma es una herramienta muy poderosa que nos ayuda a eliminar el photoresist más resistente del wafer. El plasma es increíble por derecho propio, pero lo mejor es que podemos convertirlo en un agente super selectivo. Eso significa que puede ajustarse para reaccionar específicamente solo con el photoresist, no con los otros materiales debajo de él.

Por ejemplo: Si tenemos un patrón en la wafer donde el metal está colocado debajo del photoresist, podemos usar un tipo de plasma que reacciona solo con el photoresist. De esta manera, podemos grabar el photoresist sin dañar el metal debajo de él. Ahora, esto es muy crítico ya que necesitamos que todas las partes de la wafer mantengan su integridad durante el proceso.

La Técnica de Plasma para Eliminar Photoresist

Minder-Hightech emplea tecnología de plasma moderna para eliminar el photoresist de nuestras wafers. Esto nos permite fabricar semiconductores libres de errores, de alta calidad.

Rápido, adaptable a tus necesidades. Nuestros sistemas están diseñados para integrarse sin problemas en tu flujo de trabajo. Esto significa que podemos eliminar el photoresist rápidamente. Y debido a nuestra rapidez, satisfacemos la demanda total de nuestros clientes, entregando grandes productos cuando los necesitan.

Pero nuestros sistemas de plasma también son muy precisos, además de su eficiencia. Lo que esta precisión nos proporciona es la capacidad de eliminar únicamente el photoresistente en sí. Nuestra tecnología evita que todas las demás partes del wafer se dañen durante nuestro proceso, y no podemos permitirnos hacer eso. Esta práctica metódica se vuelve aún más esencial para la calidad de los semiconductores que fabricamos.

Eliminación de Photoresistente Inducida por Plasma en Semiconductores

Así que, en resumen, el plasma es un superpoder que nos permite quitar algunas capas de fotoresistente de la superficie del wafer de manera altamente efectiva. En Minder-Hightech, aplicamos la tecnología de plasma más avanzada y eficiente para producir semiconductores de calidad exactamente sin defectos. Cuando se trata de sistemas de plasma, nuestras soluciones se fabrican para equilibrar velocidad con precisión, mientras siguen siendo muy eficientes. Esto significa poder cumplir con las demandas de nuestros clientes y entregar productos de calidad sin fallo. Eso busca mejorar el proceso de los semiconductores que utilizamos. eliminación de plasma tecnología que hace que nuestros semiconductores sean lo mejor posible para todo tipo de dispositivos electrónicos, convirtiéndolos en gadgets confiables.