Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd.

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Fotolitografía de máquina alineadora/alineadora

Descripción de Productos
Máquina de litografía con alineador de máscaras
Mask Aligner se utiliza principalmente en el desarrollo y producción de circuitos integrados de pequeña y mediana escala, componentes semiconductores, dispositivos optoelectrónicos, dispositivos de ondas acústicas de superficie, circuitos de película delgada y dispositivos electrónicos de potencia.
Mask Aligner También conocido como: máquina de exposición de alineación de máscaras, sistema de exposición, sistema de litografía, etc., es el equipo principal para la fabricación de chips. Utiliza una tecnología similar a la impresión fotográfica para imprimir los patrones finos de la máscara en la oblea de silicio mediante exposición a la luz.
Compuesto principalmente por: banco de trabajo de alineación de alta precisión, microscopio vertical de campo de visión binocular separado, microscopio horizontal de campo de visión binocular separado, cámara digital, sistema de memoria de imágenes de computadora, cabezal de exposición de fuente de luz multipunto (ojo de mosca), sistema de control PLC, sistema neumático, sistema de vacío, bomba de vacío de conexión directa, banco de trabajo secundario antivibraciones y caja de accesorios
Fabricación de fotolitografía de alineadores/máquinas de alineación
Fábrica de fotolitografía de alineadores/máquinas de alineación
Característica
1. Cabezal de exposición de ojo de mosca de alta uniformidad/mecanismo de nivelación por flotación de aire/exposición de sujeción al vacío confiable. resolución alta.
2. El método de alineación mediante máscara mantiene la estabilidad y la alimentación del sustrato, lo que garantiza la consistencia de la gravedad y la fuerza de la guía.
3. Utilizando una guía recta sin espacios, alta precisión y velocidad rápida.
4. Todos los modelos son aptos para trabajar con todos los fotoprotectores estándar. como AZ, Shipley, SU 8.
5. Todos los modelos La calidad del patrón transferida por el sistema al sustrato 5 aplicaciones de máscara debe ser la misma que la calidad del patrón después de la aplicación de la primera máscara.
6. Tiempo de exposición regulable entre 1 segundo y 1 hora. Precisión de alineación 1 µm
Proveedor de fotolitografía de alineador/máquina de alineación
Detalles de fotolitografía del alineador/máquina de alineación
Detalles de fotolitografía del alineador/máquina de alineación
Fábrica de fotolitografía de alineadores/máquinas de alineación
Fabricación de fotolitografía de alineadores/máquinas de alineación
Detalles de fotolitografía del alineador/máquina de alineación
Fábrica de fotolitografía de alineadores/máquinas de alineación
Fábrica de fotolitografía de alineadores/máquinas de alineación
Fabricación de fotolitografía de alineadores/máquinas de alineación
Detalles de fotolitografía del alineador/máquina de alineación
Especificaciones
Modelo
MD-G25A
MD-G25D
MD-G31

MD-G33



Tipo de exposición
Un lado

Doble alineación lateral y doble exposición lateral.



el modo de exposición
Contacto duro, suave y proximidad sin contacto.




Cantidad de cabeza de exposición
1 cabezal de exposición

2 cabezal de exposición



Tipo de fuente de luz
Lámpara de mercurio esférica GCQ350



Cabezal de exposición LED UV

método de enfriamiento
Aire acondicionado




Área de exposición
Φ100mm
110 × 110mm
Φ100mm

150mm × 150mm



el modo de exposición
Compatible con contacto duro, blando.




Desnivel de exposición
Φ100mm<±3%<>
≤ ± 3%




Resolución de exposición
2μm
1 micras




Intensidad del haz (365 nm)
≥6 mw/cm²
≤40 mw/cm2
≥5 mw/cm2

0~30mw/cm2



Falta de homogeneidad del haz
≤ ± 4%
≤ ± 3%




Ángulo de desviación máxima de la luz UV




Rango de iluminación
≤Φ117 mm
Φ117mm
≤Φ117 mm

Delantero y trasero ≥ Φ115mm



Modo de compensación de error de cuña
Compensación automática hemisférica

Eliminación automática

Compensación automática de 3 puntos.


El recorrido de los ejes X e Y.
± 4mm
± 5mm
± 4mm

± 5 mm



El viaje del θ
± 3 °
≤5 °
≤ ± 5º

≤0.5 °



Resolución de desplazamiento del sustrato XYZ
0.5μm
0.3μm
0.3μm

0.01μm



sistema de microscopio
Dos microscopios de un solo barril/Dos cámaras CCD




Tamaño de la pantalla
15 pulgadas




Resolución del sistema de imágenes
2μm
1.5μm
1.5μm

1.5μm



Máscara y distancia de medición del sustrato.
Micras 0.5
Micras 0.3




Dimensión diagonal de la superficie objetivo del CCD
1/3,(6mm)



40 mm ~ 110 mm

Configurar el tamaño de la mesa
≤ Cuadrado 5*5 pulgadas (especificaciones personalizables)




Tamaño de los sustratos
Φ 100 mm o 100*100 mm cuadrados
Cuadrado de 60 * 49.5 mm
2 "-4"

1"x1"-5"x5"



Espesor del sustrato
1-3mm
≤5 mm
1-3mm

≤5 mm



Bomba aspiradora
Silencio sin aceite (-0.07 ~ 0.08 MPα)




Aire comprimido limpio
≥0.4MPα




Fuente de Energía
CA 220V±10% 50HZ 1.5KW




Grado de sala limpia
Clase 100




Temperatura ambiente limpia
25 ℃ ± 2 ℃




Humedad relativa de la sala limpia.
≤60%




Amplitud de vibración de la sala limpia.
≤ 4 μm




Tamaño del equipo
1300 × 720 × 1600 mm


1500 × 800 × 1600 mm


peso del equipo
200kg


280kg


La fabricación de sistemas de alineación de alta precisión debe tener un proceso mecánico de precisión casi perfecto. Otro problema técnico del sistema de alineación es el microscopio de alineación. Para mejorar el campo de visión del microscopio, muchas máquinas de litografía de alta gama utilizan iluminación LED. Hay dos conjuntos de sistemas de alineación con función de enfoque. Se compone principalmente de dos ojos y dos campos de visión dirigidos al cuerpo principal del microscopio, un par de oculares y un par de lentes objetivos (la máquina de litografía generalmente proporciona ocular y lente objetivo con diferentes aumentos para los usuarios). La función del sistema de alineación CCD es ampliar las marcas de alineación de la máscara y muestrearlas y visualizarlas en el monitor.
Fábrica de fotolitografía de alineadores/máquinas de alineación
Fábrica de fotolitografía de alineadores/máquinas de alineación
La etapa de la pieza de trabajo es una parte clave de la máquina de litografía, que se compone de la etapa de movimiento general de la muestra de máscara (XY), la etapa de movimiento relativo de la muestra de máscara (XY), la etapa de rotación, el mecanismo de nivelación de la muestra y el mecanismo de enfoque de la muestra. , la etapa de oblea, la abrazadera de máscara y la etapa de máscara extraíble. El mecanismo de nivelación de muestras comprende un asiento de bola y un hemisferio. En el proceso de nivelación, en primer lugar, se aplica aire a presión al asiento de la bola y al hemisferio, y luego el asiento de la bola, el hemisferio y la pieza de muestra se mueven hacia arriba a través del volante de enfoque, de modo que la pieza de muestra se pueda nivelar contra la máscara, y luego la válvula solenoide de tres vías y dos posiciones cambia el asiento de la bola y el hemisferio al vacío para bloquearlo y mantener el estado de nivelación.
Detalles de fotolitografía del alineador/máquina de alineación
Proveedor de fotolitografía de alineador/máquina de alineación
Fábrica de fotolitografía de alineadores/máquinas de alineación
Detalles de fotolitografía del alineador/máquina de alineación
Fábrica de fotolitografía de alineadores/máquinas de alineación



Minder-Hightech le ofrece una tecnología avanzada para fotolitografía a través de Aligner/Alignment Machine.

 

¿Tiene problemas con la precisión insuficiente al imprimir circuitos en sus productos electrónicos? Con la máquina alineadora/alineadora de Minder-Hightech, puede estar tranquilo sabiendo que logrará una precisión de alto nivel en la producción de sus circuitos impresos.

 

Con este artículo revolucionario, puede transferir sin problemas una imagen de alta resolución a un producto mediante fotolitografía. Esta máquina garantiza precisión a través de un sistema operativo de alineación del material con la imagen.

 

Una vez impresas y cargadas las imágenes, la máquina calcula la cantidad de exposición requerida y cómo se alinea el material con la mención de las imágenes. Este cálculo se realiza utilizando el último software informático que puede actualizarse para adaptarse al desarrollo tecnológico de la industria de producción.

 

Le permitirá crear una amplia gama, incluidos microcircuitos, circuitos de radiofrecuencia (RF) y circuitos integrados. La unidad puede producir la mejor profundidad de grabado, ancho de pista y alineación capa a capa mediante la adición de varios procedimientos complementarios, como grabado químico y galvanoplastia.

 

La ventaja de nuestro producto radica en su capacidad de producir una alta alineación, lo que garantiza que los patrones se sitúen con gran precisión en el material. Puede imprimir cómodamente muchos diseños complicados sin deformidades.

 

Es fácil de usar, compacto y eficiente, lo que lo hace adecuado para diversas instalaciones de fabricación o tamaños de empresas. Además, nuestro dispositivo viene con un mantenimiento manual y capacitación en el sitio con nuestro equipo de soporte técnico.

 

La máquina alineadora/alineadora de Minder-Hightech utiliza tecnología de fotolitografía para ayudarle a lograr los mejores resultados al imprimir sus circuitos. Experimente un nuevo nivel de tecnología que le ofrece una alta exactitud y precisión que los métodos de impresión tradicionales no pueden igualar. La máquina alineadora/alineadora de Minder-Hightech es lo que su empresa de fabricación necesita para mantenerse un paso por delante de la competencia. Póngase en contacto con nosotros hoy para disfrutar de los beneficios de la mejor tecnología de alineadores/máquinas de alineación del mercado.


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