Modelo | MD-G25A | MD-G25D | MD-G31 | MD-G33 | |||||
Tipo de exposición | Un lado | Doble alineación lateral y doble exposición lateral. | |||||||
el modo de exposición | Contacto duro, suave y proximidad sin contacto. | ||||||||
Cantidad de cabeza de exposición | 1 cabezal de exposición | 2 cabezal de exposición | |||||||
Tipo de fuente de luz | Lámpara de mercurio esférica GCQ350 | Cabezal de exposición LED UV | |||||||
método de enfriamiento | Aire acondicionado | ||||||||
Área de exposición | Φ100mm | 110 × 110mm | Φ100mm | 150mm × 150mm | |||||
el modo de exposición | Compatible con contacto duro, blando. | ||||||||
Desnivel de exposición | Φ100mm<±3%<> | ≤ ± 3% | |||||||
Resolución de exposición | 2μm | 1 micras | |||||||
Intensidad del haz (365 nm) | ≥6 mw/cm² | ≤40 mw/cm2 | ≥5 mw/cm2 | 0~30mw/cm2 | |||||
Falta de homogeneidad del haz | ≤ ± 4% | ≤ ± 3% | |||||||
Ángulo de desviación máxima de la luz UV | 4° | 3° | |||||||
Rango de iluminación | ≤Φ117 mm | Φ117mm | ≤Φ117 mm | Delantero y trasero ≥ Φ115mm | |||||
Modo de compensación de error de cuña | Compensación automática hemisférica | Eliminación automática | Compensación automática de 3 puntos. | ||||||
El recorrido de los ejes X e Y. | ± 4mm | ± 5mm | ± 4mm | ± 5 mm | |||||
El viaje del θ | ± 3 ° | ≤5 ° | ≤ ± 5º | ≤0.5 ° | |||||
Resolución de desplazamiento del sustrato XYZ | 0.5μm | 0.3μm | 0.3μm | 0.01μm | |||||
sistema de microscopio | Dos microscopios de un solo barril/Dos cámaras CCD | ||||||||
Tamaño de la pantalla | 15 pulgadas | ||||||||
Resolución del sistema de imágenes | 2μm | 1.5μm | 1.5μm | 1.5μm | |||||
Máscara y distancia de medición del sustrato. | Micras 0.5 | Micras 0.3 | |||||||
Dimensión diagonal de la superficie objetivo del CCD | 1/3,(6mm) | 40 mm ~ 110 mm | |||||||
Configurar el tamaño de la mesa | ≤ Cuadrado 5*5 pulgadas (especificaciones personalizables) | ||||||||
Tamaño de los sustratos | Φ 100 mm o 100*100 mm cuadrados | Cuadrado de 60 * 49.5 mm | 2 "-4" | 1"x1"-5"x5" | |||||
Espesor del sustrato | 1-3mm | ≤5 mm | 1-3mm | ≤5 mm | |||||
Bomba aspiradora | Silencio sin aceite (-0.07 ~ 0.08 MPα) | ||||||||
Aire comprimido limpio | ≥0.4MPα | ||||||||
Fuente de Energía | CA 220V±10% 50HZ 1.5KW | ||||||||
Grado de sala limpia | Clase 100 | ||||||||
Temperatura ambiente limpia | 25 ℃ ± 2 ℃ | ||||||||
Humedad relativa de la sala limpia. | ≤60% | ||||||||
Amplitud de vibración de la sala limpia. | ≤ 4 μm | ||||||||
Tamaño del equipo | 1300 × 720 × 1600 mm | 1500 × 800 × 1600 mm | |||||||
peso del equipo | 200kg | 280kg |
Minder-Hightech le ofrece una tecnología avanzada para fotolitografía a través de Aligner/Alignment Machine.
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