Equipo CVD para Materiales de Grafeno y Nanotubos de Carbono / Equipo semiconductor , China Equipo CVD para Materiales de Grafeno y Nanotubos de Carbono / Equipo semiconductor Manufacturers, Suppliers, Factory

Descripción del Producto

Equipo CVD para materiales de grafeno y nanotubos de carbono

El equipo se utiliza principalmente para el recubrimiento de procesos de grafeno y materiales nano; Difusión, oxidación y recocido del silicio policristalino y carburo de silicio.

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment details

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment factory

Especificación

estilo estructural	Horizontal, sistema de un solo tubo o multi-tubo con control automático
Adecuado al tamaño de la wafer	2-8″
Método de entrega y recuperación de wafer	Barco de cuarzo de empuje y tracción automático, combinado con toma y liberación manual de chips.
Temperatura máxima	1050℃
Temperatura de trabajo	400 ℃~850 ℃ continuamente ajustable
Estabilidad de temperatura en un solo punto	400℃~850℃≤±0.5℃/24h
Vacío límite del sistema	Mejor que 1Pa
velocidad de bombeo	Tiempo de bombeo hasta el vacío límite < 15Min
rango de presión de trabajo	5Pa a 1 × 105Pa continuamente ajustable
Fuente de alimentación	3 fases 5 hilos 380V±10%, 50Hz
Agua de Enfriamiento	2~4Kgf/cm², 8L/min;

Embalaje y entrega

Perfil de la empresa

Contamos con 16 años de experiencia en ventas de equipos. Podemos ofrecerle una solución profesional integral para líneas de empaquetado de semiconductores de frontend y backend desde China.