Modelo |
MDTS-WT2200 |
Número de ejes de delgados |
2 |
Número de bancos de trabajo |
3, Método de índice |
Eje del husillo de la rueda de rectificado |
Número de husillos de aire: 2 Motor de husillo: motor de frecuencia variable de 7.5kW Velocidad: 0~6000rpm, ajustable sin escalas Especificación de la rueda de grinding: Φ203mm Tipo de rueda de grinding: rueda de grinding de diamante |
Sistema de alimentación de la rueda de grinding |
Cantidad: 2 conjuntos Método de control del sistema de alimentación: riel LM y tornillo sin fin combinación Motor de tracción: motor de servomecanismo Velocidad mínima de avance: 0,1 μm/seg Velocidad máxima de avance: 50 mm/seg |
BANCO DE TRABAJO |
Cantidad: 3, modo de índice Motor del husillo: motor de servomecanismo Velocidad: 0~300 rpm, ajustable sin escalones Método de sujeción: sujeción por vacío |
Mesita giratoria |
Modo de tracción: motor de servomecanismo Rango de rotación: 0~240° Forma de posicionamiento: posicionamiento asistido por sensor |
Espesor automático Sistema de medición |
Método de medición: medición en línea en tiempo real con contacto IPG Número de cabezales de medición: 2 Sensor de medición: sensor de nivel 0.1um |
Carga automática\/ sistema de descarga |
Tipo de caja: Cassette de 6-8 pulgadas, 25 capas Método de carga/descarga automática: se utiliza manipulador de wafer para garantizar que los wafer finos sean transportados sin daño Espesor del wafer: 150um-1000um |
Función de limpieza del banco de trabajo |
Método de limpieza: Pulido con piedra de aceite y enjuague de dos fluidos con agua DI + aire |
Limpieza automática/ Sistema de secado |
Limpieza: Limpieza con boquilla de agua DIW Método de secado: Soplado + secado Velocidad: ajustable sin etapas hasta 1000rpm |
Sistema de eliminación estática |
Barra iónica o ventilador orión |
Enfriador de husillo |
Temperatura: 18-22°C Caudal: 4~8L/min |
Sistema de Control |
Sistema de control: sistema de control PC, pantalla táctil con luz de alarma de 3 colores Interfaz hombre-máquina en chino/inglés |
Tamaño máximo de wafer |
Compatible máximo con 8 pulgadas |
Rango de velocidad |
0~6000 RPM |
Recorrido del eje Z |
160mm |
Velocidad de alimentación del eje Z |
0.1~100um/seg |
Velocidad de retracción rápida del eje Z |
50mm/seg |
Resolución del eje Z |
0.1um |
Rango de medición de grosor en línea |
0~1800um |
Resolución de medición de grosor en línea |
0.1um |
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