estructura |
ilustrar |
Exponiendo la encimera |
Área de exposición: encimera, área de colocación del sustrato |
Sistema óptico |
Área de moldeo por emisión láser |
Sistema de control ambiental |
Controlar la temperatura interna y la presión positiva del dispositivo. |
Sistema de plataforma |
Controla el movimiento de la mesa de exposición para completar la operación de la ruta de exposición. |
Sistema de control |
Sistema de control de todo el equipo. |
No. |
Entorno |
Exigir |
1 |
Entorno de fuente de luz |
Luz amarilla |
2 |
Temperatura |
22 ℃ ± 2 ℃ |
3 |
Humedad |
50% ± 10% |
4 |
HoReCa |
1000 |
5 |
CDA |
0.6 ± 0.1 Mpa, 200 LPM, aire seco y limpio. |
6 |
Fuente de alimentación |
220 ~ 240 V, 50/60 Hz, 2.5 kW; el cable de tierra debe estar conectado a tierra. |
7 |
El agua de refrigeración |
Temperatura: 10 ℃ ~ 20 ℃ Presión: 0.3 MPa ~ 0.5 MPa Caudal: 20 l/min. Diferencia de presión: 0.3 MPa Tomar el control del calibre: Rc3/8 |
8 |
Sitio |
Nivel: ±3 mm/3000 mm Agitar: VC-B Rodamiento: 750 kg/㎡ |
10 |
Internet |
Un puerto de red |
11 |
tamaño de la máquina |
1300 1100 * * 2100mm |
12 |
Peso del dispositivo |
1500kg |
No. |
Proyectos |
Especulación. |
Observación |
1 |
Resolución |
0.6um/u otro requisito |
AZ703、AZ1350 |
2 |
CDU |
±10%@1um |
|
3 |
Espesor del sustrato |
0.2 mm ~ 4 mm |
|
4 |
Precisión de la cuadrícula de fechas |
60nm |
|
5 |
Superposición |
± 500nm |
130mmx130mm |
6 |
Precisión de costura |
± 200nm |
AZ703 |
7 |
Tamaño de exposición MÁXIMO |
190X190mm |
|
8 |
Throughput |
≥300 mm2/min |
≤50mj/cm2; |
9 |
fuente de luz |
LD 375nm |
|
10 |
potencia de la luz |
6W |
|
11 |
Uniformidad energética |
≥ 95% |
|
12 |
vida ligera |
10000hr |
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