Este equipo se utiliza principalmente para el desarrollo y producción de circuitos integrados, componentes semiconductores y dispositivos de ondas acústicas de superficie de tamaño pequeño y mediano. Debido al mecanismo de nivelación avanzado y la baja fuerza de nivelación, esta máquina no solo es adecuada para la exposición de varios tipos de sustratos, sino también para la exposición de sustratos fácilmente fragmentables como el arseniuro de potasio y el acero de fosfato, así como la exposición de materiales no sustratos circulares y pequeños.