Sistema RTP de escritorio de procesamiento térmico rápido para semiconductores compuestos SlC LED y MEMS, China Sistema RTP de escritorio de procesamiento térmico rápido para semiconductores compuestos SlC LED y MEMS Fabricantes, Proveedores, Fábrica

Descripción del producto

Procesamiento térmico rápido

Proporcionar equipos RTP confiables para semiconductores compuestos, SlC, LED y MEMS.

Aplicaciones de la industria

* Crecimiento de óxidos y nitruros.
* Aleación rápida de contacto óhmico
* Recocido de aleación de siliciuro
* Reflujo de oxidación
* Proceso de arseniuro de galio
* Otros procesos de tratamiento térmico rápido

Sistema RTP de escritorio de procesamiento térmico rápido para semiconductores compuestos Detalles SlC LED y MEMS

Ventajas del producto

1. El rango del proceso cubre 200-1250 ℃
2. Un potente sistema de gestión de temperatura en el campo.
3. Algoritmo RTP dedicado
4. Herramienta profesional de calibración de oblea TC

Feature

* Calefacción del tubo de la lámpara halógena infrarroja, refrigeración mediante refrigeración por aire;
* Control de temperatura PlD para la potencia de la lámpara, que puede controlar con precisión el aumento de temperatura, asegurando una buena reproducibilidad y uniformidad de temperatura;
* La entrada del material se fija en la superficie de la WAFER para evitar la producción de puntos fríos durante el proceso de recocido y asegurar una buena uniformidad de temperatura del producto;
* Se pueden seleccionar métodos de tratamiento tanto atmosférico como al vacío, con pretratamiento y purificación del cuerpo;
* Dos conjuntos de gases de proceso son estándar y se pueden ampliar hasta 6 conjuntos de gases de proceso;
* El tamaño máximo de una muestra de silicio monocristalino medible es de 12 pulgadas (300 x 300 mm);
* Las tres medidas de seguridad de protección de apertura de temperatura segura, protección de permiso de apertura del controlador de temperatura y protección de seguridad de parada de emergencia del equipo se implementan completamente para garantizar la seguridad del instrumento;

Coincidencia de curvas de 20 grados.

Sistema RTP de escritorio de procesamiento térmico rápido para fabricación de semiconductores compuestos SlC LED y MEMS

20 curvas para control de temperatura a 850 ℃

Sistema RTP de escritorio de procesamiento térmico rápido para semiconductores compuestos SlC LED y fábrica de MEMS

Coincidencia de 20 curvas de temperatura media.

Control de temperatura de 1250 ℃

Sistema RTP de escritorio de procesamiento térmico rápido para semiconductores compuestos Proveedor SlC LED y MEMS

Control de temperatura RTP proceso de 1000 ℃

Proceso de 960 ℃, controlado por pirómetro infrarrojo.

Datos de proceso LED

RTD Wafer es un sensor de temperatura que utiliza técnicas de procesamiento especiales para incorporar sensores de temperatura (RTD) en ubicaciones específicas de la superficie de una oblea, lo que permite la medición en tiempo real de la temperatura de la superficie de la oblea.
Las mediciones de temperatura real en ubicaciones específicas de la oblea y la distribución general de temperatura de la oblea se pueden obtener a través de RTD Wafer; También se puede utilizar para el seguimiento continuo de cambios transitorios de temperatura en obleas durante el proceso de tratamiento térmico.

Vista de la fábrica

Perfil de la empresa

¡16 años de experiencia en exportación de equipos! ¡Podemos brindarle una solución integral de equipos y procesos de front-end/back-end de semiconductores!