Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd.

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  • Sistema de grabado de iones reactivos Máquina RIE Análisis de fallos RIE
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Sistema de grabado de iones reactivos Máquina RIE Análisis de fallos RIE

Descripción del producto 
Sistema de grabado de iones reactivos
Sistema de grabado de iones reactivos Máquina RIE Proveedor de análisis de fallas RIE
Applicación
Capa de pasivación: SiO2, SiNx
Silicio trasero
Capa adhesiva: TaN
Agujero pasante: W
Feature
1. Grabado de la capa de pasivación con o sin agujeros;  
2. Grabado de la capa adhesiva;  
3. Grabado de silicona en la espalda
Especificaciones
Configuración del proyecto y diagrama de estructura de la máquina.
Asunto
MD150-RIE
MD200-RIE
MD200C-RIE


Tamaño del producto
≤6 pulgadas
≤8 pulgadas
≤8 pulgadas


fuente de alimentación de radiofrecuencia
0-300W/500W/1000W Ajuste automático y ajustable


bomba molecular
-/620(L/s)/1300(L/s)/Personalizado

Antiséptico620(L/s)/1300(L/s)/Personalizado

bomba delantera
Bomba mecánica/bomba seca

Bomba seca

Presión de proceso
Presión no controlada/presión controlada 0-1Torr


Tipo de gas
H/CH4/O2/N2/Ar/SF6/CF4/
CHF3/C4F8/NF3/Personalizado
(Hasta 9 canales, sin gases corrosivos ni tóxicos) 

H2/CH4/O2/N2/Ar/F6/CF4/ CHF3/C4F8/NF3/Cl2/BCl3/HBr(Up to 9 channels) 

Rango de gas
0~5sccm/50sccm/100sccm/200sccm/300sccm/500sccm/custom


Bloqueo de carga
Si no


Control de temperatura de muestra
10°C~Temperatura ambiente/-30°C~100°C/Personalizado

-30°C~100°C /Personalizado

Refrigeración trasera con helio
Si no


Revestimiento de la cavidad del proceso
Si no


Control de temperatura de la pared hueca
No/Temperatura ambiente~60/120°C

Temperatura ambiente-60/120°C

Sistema de control
Automático/personalizado


Material de grabado
A base de silicio:Si/SiO2/SiNx. 
IV-IV: SiC
Materiales magnéticos/materiales de aleación.
Material metálico: Ni/Cr/Al/Au. 
Material orgánico: PR/PMMA/HDMS/Película orgánica. 

A base de silicio: Si/SiO2/SiNx. 
III-V(注3): InP/GaAs/GaN. 
IV-IV: SiC
II-VI (注3): CdTe. 
Materiales magnéticos/materiales de aleación.
Material metálico: Ni/Cr/A1/Au. 
Material orgánico: PR/PMMA/HDMS/película orgánica. 

1. Evitar que vuelen las virutas
2. Nodo mínimo que se puede procesar: 14nm:
3. Velocidad de grabado de SiO2/SiNx: 50~150 nm/min;
4. Rugosidad de la superficie grabada:5. Capa de pasivación de soporte, capa de adhesión y grabado de silicona posterior;
6. Relación de selección de Cu/Al:>50
7. Máquina todo en uno LxWxH: 1300mmX750mmX950mm
8. Admite la ejecución con un solo clic
Resultado del proceso

Grabado de materiales a base de silicona

Materiales a base de silicio, patrones de nanoimpresión, matriz.
patrones y grabado de patrones de lentes
Sistema de grabado de iones reactivos Máquina RIE Fábrica de análisis de fallos RIE

Grabado a temperatura normal InP

Grabado de patrones de dispositivos basados ​​en InP utilizados en comunicaciones ópticas, incluida la estructura de guía de ondas y la estructura de cavidad resonante.
Sistema de grabado de iones reactivos Máquina RIE Proveedor de análisis de fallas RIE

Grabado de material SiC

Adecuado para dispositivos de microondas, dispositivos eléctricos, etc.


Sistema de grabado de iones reactivos Máquina RIE Detalles del análisis de fallas RIE

Chisporroteo físico, grabado Grabado de material orgánico

Se aplica al grabado de materiales difíciles de grabar como algunos metales (como Ni/Cr) y cerámicas, y el
picazón con patrón.
Se utiliza para grabar y eliminar compuestos orgánicos como fotorresistente (PR)/PMMA/HDMS/polímero.
Sistema de grabado de iones reactivos Máquina RIE Fábrica de análisis de fallos RIE
Visualización de los resultados del análisis de fallos.
Sistema de grabado de iones reactivos Máquina RIE Fabricación de análisis de fallas RIE
Detalles del producto 
Sistema de grabado de iones reactivos Máquina RIE Detalles del análisis de fallas RIE
Sistema de grabado de iones reactivos Máquina RIE Fabricación de análisis de fallas RIE
Sistema de grabado de iones reactivos Máquina RIE Proveedor de análisis de fallas RIE
Sistema de grabado de iones reactivos Máquina RIE Fábrica de análisis de fallos RIE
Sistema de grabado de iones reactivos Máquina RIE Fabricación de análisis de fallas RIE
Sistema de grabado de iones reactivos Máquina RIE Fábrica de análisis de fallos RIE
Embalaje y Entrega 
Sistema de grabado de iones reactivos Máquina RIE Fábrica de análisis de fallos RIE
Sistema de grabado de iones reactivos Máquina RIE Detalles del análisis de fallas RIE
máquina de soldadura
Perfil de la empresa

La máquina de grabado de iones reactivos (RIE) de alta tecnología de Minder es una pieza de tecnología de última generación que puede grabar y analizar varios tipos de materiales con una precisión increíble. Esta máquina está diseñada para su uso en diversas industrias donde se requiere microfabricación o grabado con regularidad. Está fabricado con materiales de alta calidad que lo hacen duradero, confiable y capaz de producir excelentes resultados. 

 

Equipado con un generador de plasma de RF es eficaz. El sistema RIE utiliza un acoplamiento inductivo para generar plasma a partir de la gasolina de alimentación. Esta técnica crea un plasma de alta densidad que aumenta la tasa de grabado asociada con el producto. El proceso de grabado de la máquina RIE es efectivo, preciso y altamente controlable, lo que permite lograr una profundidad específica. Esta característica es única y es una excelente opción para trabajos de investigación o industriales. 

 

La máquina tiene una amplia gama de productos, que incluyen microelectrónica, fabricación de MEMS y fabricación de semiconductores. Esta máquina desempeña un papel importante en el grabado y el micromecanizado de materiales semiconductores como el silicio, el arseniuro de galio y el germanio en la industria de los semiconductores. El dispositivo RIE de alta tecnología Minder también se ha establecido en la industria MEMS para fabricar materiales blandos y duros como poliimida, dióxido de silicio y nitruro de silicio. Además, es accesible para análisis de fallas en industrias asociadas con servicios y productos electrónicos. 

 

Incluye funciones que son diversas y facilitan su uso. Es un software fácil de usar que proporciona al operador un control total sobre los parámetros de grabado utilizados en el dispositivo. La configuración de la máquina se guarda en su memoria interna y puede almacenar más de 100 conjuntos de configuraciones. Tiene una pantalla táctil que permite al operador configurar parámetros como el movimiento del gas, el espesor de potencia y la presión. La máquina RIE de alta tecnología de Minder también tiene una función de control de temperatura que garantiza que los materiales se graben a la temperatura adecuada y evita que se dañen. 

 

Perfecto para empresas que requieren una máquina confiable y eficiente que pueda proporcionar resultados exactos y precisos. Este dispositivo ha sido diseñado con tecnología de primer nivel y el nivel es mucho. Su versatilidad y características fáciles de usar lo convierten en una muy buena opción para aplicaciones industriales y de investigación en diferentes sectores. 

 

También cuenta con un eficiente sistema de análisis de fallas que permite a la máquina detectar y corregir cualquier problema mecánico lo antes posible. Este sistema garantiza que la máquina RIE mantenga una alta calidad y fiabilidad durante todo su ciclo de vida. Para cualquier industria que requiera grabado o microfabricación precisa y eficiente, la máquina RIE de alta tecnología de Minder es la solución perfecta.


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