Plasma
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rF
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rF
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Poder
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ICP
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1000W
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1000W
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BIAS
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600w(opción)
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600w(opción)
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Ámbito de Aplicación
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4~8 pulgadas
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4~8 pulgadas
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Cantidad de procesamiento individual por lote
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1
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2
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Dimensiones externas
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1080x1840x1800mm
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1340x2050x1800mm
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Control del sistema
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Sistema de Control Industrial
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Sistema de Control Industrial
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Nivel de automatización
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Automático
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Automático
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Capacidad de Hardware
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Tiempo de funcionamiento/Tiempo disponible
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≧95%
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Tiempo medio para limpiar (MTTC)
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≦6 horas
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Tiempo medio para reparar (MTTR)
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≦4 horas
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Tiempo medio entre fallos (MTBF)
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≧350 horas
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Tiempo medio entre asistencias (MTBA)
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≧24 horas
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Wafer medio entre roturas (MWBB)
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≦1 en 10,000 wafers
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Control de la placa de calefacción
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50-250°
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