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  • Máquina de limpieza por plasma de microondas al vacío Tratamiento de superficie por plasma Solución de envasado de semiconductores Paquete IC TO
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Descripción de los productos

Solución de Envasado de Semiconductores Limpiador de Plasma de Microondas

SPV-100MWR es un sistema de limpieza de plasma de microondas de baja tensión para semiconductores. Al aplicar microondas con una frecuencia de 2.45GHz a la ventana en la pared de la cavidad de vacío, se genera una gran cantidad de Plasma continuo, y el chip se limpia al entrar en la cavidad.
Vacuum microwave plasma cleaning machine Plasma Surface Treatment Semiconductor Packaging solution IC TO package supplier
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Parámetros técnicos
Unidad de plasma de vacío
Tamaño del equipo
1230X1800X1100mm (ancho x alto x profundidad)
Peso
450 Kg
Demanda de energía
AC380V, 50/60Hz, 5 hilos, 30A
Especificaciones del Generador de Plasma
Fuente de alimentación de microondas
Poder
0~1250W
Frecuencia
2.45GHz
Sistema de vacío
Material
Aleación de aluminio (cámaras de acero inoxidable personalizables)
Grosor
25mm
Dimensiones internas de la cavidad
480mmX470mmX480mm
Espacios de trabajo
6 secciones de revista
ECR
La revista ranurada proporciona un efecto de procesamiento mejorado por ECR
Capacidad de plasma
Capacidad de procesamiento
paso de 35 micras
bump de 40μm
tamaño máximo de dado de 15X15mm
Aplicaciones
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Detalle
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