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Minder-Hightech è un produttore di semiconduttori. I semiconduttori sono componenti essenziali di gran parte di ciò che costituisce la vita moderna, come telefoni cellulari e computer. Ora, ci sono alcuni passaggi nella creazione di semiconduttori, ma il primo passo è creare un modello su una superficie piana nota come wafer.

Per riprodurre questo pattern, depositiamo uno speciale materiale sul wafer. Questa sostanza è nota come fotoresist. Una volta che abbiamo posato il fotoresist, lo esponiamo alla luce. Sotto la luce, un'area del fotoresist si indurisce e diventa forte. Le aree in ombra rimangono morbide e possono essere rimosse.

Dopo aver ottenuto il pattern desiderato sul wafer, il fotoresist deve essere rimosso dalle aree in cui eseguiremo l'ulteriore elaborazione. Ecco dove Detergente al plasma entra in gioco, letteralmente.

Metodi basati sul plasma per la rimozione del fotoresist

Il plasma è uno stato di gas con un alto livello di energia, dovuto a un'elevata carica elettrica applicata ad esso. E questo gas attivato è molto utile per rimuovere il fotoresist sulla superficie del wafer. Attraverso il plasma, il fotoresist può diventare fragile e pulirlo diventa molto più facile.

Per la rimozione del fotoresist utilizziamo due tecniche diverse che utilizzano il plasma: l'incisione a secco e l'incenerimento.

L'incisione a secco: in questa tecnica, il plasma effettivo interagisce con il fotoresist. Il plasma reagisce con il fotoresist nel punto in cui entra in contatto. Questa reazione decompone il fotoresist e lo converte in gas. Questa sostanza gassosa può essere successivamente pulita dalla superficie del wafer, esponendo le aree che desideriamo pulite e disponibili per la progressione.

Ashing — Questo è un modo diverso di farlo, in questo metodo viene utilizzato plasma non reattivo per il photoresist. Il plasma invece frantuma il photoresist in minuscoli pezzi. Quindi questi piccoli pezzi possono essere lavati via dal wafer. Questo approccio è adatto e protegge il wafer mentre rimuove il photoresist non necessario.

Utilizzo del plasma reattivo per la rimozione del fotoresist

Trattamento superficiale al plasma è uno strumento molto potente che ci aiuta a rimuovere il photoresist più resistente dal wafer. Il plasma è incredibile di per sé, ma la parte migliore è che possiamo trasformarlo in un agente super selettivo. Ciò significa che può essere regolato per reagire specificamente solo con il photoresist, non con gli altri materiali sottostanti.

Ad esempio: se abbiamo un pattern sul wafer in cui il metallo è posizionato sotto il fotoresist, possiamo usare un tipo di plasma che reagisce solo con il fotoresist. Quindi, possiamo incidere via il fotoresist senza danneggiare il metallo sottostante. Ora, questo è molto critico poiché abbiamo bisogno che tutte le parti del wafer mantengano la loro integrità durante il processo.

La tecnica del plasma per rimuovere il fotoresist

Minder-Hightech impiega la nuova tecnologia al plasma per rimuovere il fotoresist dai nostri wafer. Ciò ci consente di fabbricare semiconduttori privi di errori e di alta qualità.

Rapido, adattabile alle tue esigenze I nostri sistemi sono progettati per integrarsi perfettamente nel tuo flusso di lavoro. Ciò indica che siamo in grado di rimuovere il fotoresist in breve tempo. E poiché siamo rapidi, soddisfiamo la domanda completa dei nostri clienti, consegnando ottimi prodotti quando ne hanno bisogno.

Ma i nostri sistemi al plasma sono anche molto precisi, oltre alla loro efficienza. Ciò che questa precisione ci fornisce è la capacità di rimuovere solo il fotoresist stesso. La nostra tecnologia impedisce che tutte le altre parti del wafer vengano danneggiate dal nostro processo, e non possiamo permettercelo. Questa pratica metodica diventa ancora più essenziale per la qualità dei semiconduttori che produciamo là fuori.

Rimozione del fotoresist indotto dal plasma sui semiconduttori

Quindi, in breve, il plasma è una superpotenza che ci consente di rimuovere un po' di fotoresist dalla superficie del wafer in modo altamente efficace. Noi di Minder-Hightech applichiamo la più recente e migliore tecnologia al plasma per produrre semiconduttori di qualità esattamente a zero difetti. Quando si tratta di sistemi al plasma, le nostre soluzioni sono realizzate per bilanciare velocità e precisione, pur essendo molto efficienti. Ciò significa essere in grado di soddisfare le richieste dei nostri clienti e di fornire prodotti di qualità senza errori. Ciò spera di migliorare il processo dei semiconduttori mentre utilizziamo rimozione del plasma tecnologia che rende i nostri semiconduttori i migliori possibili per tutti i tipi di dispositivi elettronici, rendendoli gadget affidabili.