Allineatore/Macchina di Allineamento per Fotolitografia , China Allineatore/Macchina di Allineamento per Fotolitografia Manufacturers, Suppliers, Factory

Descrizione dei Prodotti

Macchina di Litografia con Allineatore Maschera

L'Allineatore Maschera è principalmente utilizzato nello sviluppo e nella produzione di circuiti integrati a scala media e piccola, componenti semiconduttori, dispositivi ottoelettronici, dispositivi a onde acustiche superficiali, circuiti a film sottile e dispositivi elettronici a potenza
Allineatore di Maschere, noto anche come: macchina per l'allineamento e la esposizione delle maschere, sistema di esposizione, sistema di litografia, ecc., è l'attrezzatura principale per la produzione di chip. Utilizza una tecnologia simile alla stampa fotografica per stampare i fini pattern della maschera sulla wafer di silicio tramite esposizione luminosa.
Composto principalmente da: banco di lavoro ad allineamento ad alta precisione, microscopio verticale a campo visivo separato binoculare, microscopio orizzontale a campo visivo separato binoculare, fotocamera digitale, sistema informatico di immagine e memoria, testina di esposizione a sorgenti luminose multiple (fly eye), sistema di controllo PLC, sistema pneumatico, sistema a vuoto, pompa a vuoto diretta, banco di lavoro antivibrazione secondario e scatola degli accessori.

Aligner /Alignment Machine photolithography manufacture

Aligner /Alignment Machine photolithography factory

Caratteristica

1. Testina di esposizione fly-eye ad alta uniformità / meccanismo di livellamento a galleggiamento aerodinamico / esposizione a tenuta a vuoto affidabile. Alta risoluzione.
2. Metodo di allineamento mediante maschera che mantiene stabilità e alimentazione del substrato, garantendo la coerenza tra la forza guida e la forza applicata.
3. Utilizzo di guide lineari senza giunture, alta precisione, velocità elevata.
4. Tutti i modelli sono adatti per lavorare con tutti i fotoresist standard, come AZ, Shipley, SU 8.
5. Per tutti i modelli, la qualità del pattern trasferito dal sistema al substrato dopo 5 applicazioni di maschera dovrebbe essere la stessa della qualità del pattern dopo l'applicazione della prima maschera.
6. Il tempo di esposizione è regolabile tra 1 secondo e 1 ora. Precisione di allineamento 1 µm

Aligner /Alignment Machine photolithography supplier

Aligner /Alignment Machine photolithography details

Specifiche

Modello	MD-G25A	MD-G25D	MD-G31		MD-G33
Tipo di esposizione	una faccia			Allineamento doppio lato ed esposizione doppia lato
Modalità di esposizione	Contatto duro, morbido e prossimità senza contatto
Quantità di testa di esposizione	1 testa di esposizione			2 teste di esposizione
Tipo di sorgente luminosa	Lampada a mercurio sferica GCQ350						Testa di esposizione UV a LED
Metodo di raffreddamento	raffreddamento ad aria
Area di esposizione	Φ100 mm	110×110mm	Φ100 mm		150mm×150mm
Modalità di esposizione	Compatibile con contatto duro e morbido
Irregolarità dell'esposizione	Φ100mm<±3%<>	≤ ± 3%
Risoluzione dell'esposizione	2μm	1 μm
Intensità del fascio (365 nm)	≥6mw/cm²	≤40mw/cm2	≥5mw/cm2		0～30mw/cm2
Inomogeneità del fascio	≤±4%	≤ ± 3%
Angolo di deviazione massima della luce UV	4°	3°
Portata di illuminazione	≤Φ117mm	Φ117mm	≤Φ117mm		Fronte e retro ≥ Φ115mm
Modalità di compensazione dell'errore a spina	Compensazione automatica emisferica			Eliminazione automatica		Compensazione automatica a 3 punti
Il percorso degli assi X e Y	±4mm	±5mm	±4mm		±5 mm
Il percorso di θ	±3°	≤5°	≤±5º		≤0.5°
Risoluzione dello spostamento del substrato XYZ	0.5µm	0.3µm	0.3µm		0.01µm
Sistema microscopico	Due microscopi a singolo barilett / Due telecamere CCD
Dimensione del display	15 pollici
Risoluzione del sistema di imaging	2µm	1.5µm	1.5µm		1.5µm
Distanza di misurazione tra maschera e substrato	0.5 µm	0.3 µm
Dimensione diagonale della superficie target del CCD	1/3,（6mm）						40mm～110mm
Dimensioni della tavola di impostazione	≤ Quadrato 5*5 pollici (Specifiche personalizzabili)
Dimensioni dei substrati	Φ 100mm o quadrato 100*100mm	quadrato 60*49.5mm	2”-4”		1"x1"-5"x5"
Spessore del substrato	1-3 mm	≤5 mm	1-3 mm		≤5 mm
Pompa a vuoto	Senza olio silenziato（-0.07～－0.08MPα）
Aria compressa pulita	≥0.4MPα
Alimentazione	AC 220V±10% 50HZ 1.5KW
Grado di sala pulita	Classe 100
Temperatura della sala pulita	25℃±2℃
Umidità relativa della sala pulita	≤60%
Ampiezza di vibrazione della sala pulita	≤4μm
Dimensioni dell'attrezzatura	1300 ×720×1600mm				1500 ×800×1600mm
peso dell'apparecchiatura	200KG				280 kg

La realizzazione di un sistema di allineamento ad alta precisione richiede quasi una perfezione meccanica. Un altro problema tecnico del sistema di allineamento è il microscopio di allineamento. Al fine di ampliare il campo visivo del microscopio, molte macchine da litografia di alto livello utilizzano l'illuminazione LED. Ci sono due sistemi di allineamento con funzione di messa a fuoco. Essi sono principalmente composti da due oculari e due campi visivi diretti verso il corpo del microscopio, un paio di oculari e un paio di obiettivi (le macchine da litografia forniscono solitamente oculari e obiettivi con ingrandimento variabile agli utenti). La funzione del sistema di allineamento CCD è quella di ingrandire i segni di allineamento della maschera e del campione e di visualizzarli sul monitor.

Il tavolo per il pezzo da lavoro è una parte chiave della macchina di litografia, composta dal tavolo di movimento generale della maschera e del campione (XY), dal tavolo di movimento relativo della maschera e del campione (XY), dal tavolo di rotazione, dal meccanismo di livellamento del campione, dal meccanismo di messa a fuoco del campione, dal tavolo per wafer, dalla pinza per la maschera e dal tavolo estrattore per la maschera. Il meccanismo di livellamento del campione comprende una sede sferica e un emisfero. Nel processo di livellamento, innanzitutto si applica aria compressa alla sede sferica e all'emisfero, quindi la sede sferica, l'emisfero e il pezzo campione si muovono verso l'alto attraverso la ruota di messa a fuoco, in modo che il pezzo campione possa essere livellato contro la maschera, dopodiché la valvola elettropneumatica a tre vie e due posizioni commuta la sede sferica e l'emisfero al vuoto per bloccare e mantenere lo stato di livellamento.

Minder-Hightech ti offre una tecnologia avanzata per la fotolitografia tramite Aligner/Macchina di Allineamento.

Stai lottando con una precisione insufficiente durante la stampa di circuiti sui tuoi prodotti elettronici? Con l'Allineatore/Macchina di Allineamento di Minder-Hightech, puoi stare tranquillo sapendo che otterrai un alto livello di precisione nella produzione dei tuoi circuiti stampati.

Con questo prodotto rivoluzionario, è possibile trasferire senza soluzione di continuità un'immagine ad alta risoluzione su un prodotto utilizzando la fotolitografia. Questa macchina garantisce la precisione attraverso un sistema operativo di allineamento del materiale all'immagine.

Dopo aver stampato e caricato le immagini, la macchina calcola la quantità di esposizione richiesta e come il materiale è allineato rispetto alle immagini. Questo calcolo viene eseguito utilizzando l'ultimo software informatico che può essere aggiornato per tenere pace con lo sviluppo tecnologico nell'industria della produzione.

Ti permetterà di realizzare un ampio spettro, incluso microcircuiti, circuiti radiofrequenza (RF) e circuiti incorporati. L'unità può produrre la migliore profondità di incisione, larghezza del percorso e allineamento tra i vari strati attraverso l'aggiunta di varie procedure complementari, come l'incisione chimica e l'elettroplaccatura.

Il vantaggio del nostro prodotto risiede nella sua capacità di produrre un'allineazione elevata, che garantisce che i pattern siano posizionati con grande precisione sul materiale. È possibile stampare comodamente molti disegni complessi senza deformazioni.

È facile da usare, compatto ed efficiente, il che lo rende adatto a varie strutture di produzione o dimensioni aziendali. Inoltre, il nostro dispositivo include una manutenzione manuale e un addestramento in loco con il nostro team di assistenza tecnica.

La Macchina per Allineamento di Minder-Hightech utilizza la tecnologia di fotolitografia per aiutarti a ottenere i migliori risultati durante la stampa dei tuoi circuiti. Sperimenta un nuovo livello di tecnologia che offre alta precisione e accuratezza, impossibile da eguagliare con i metodi tradizionali di stampa. La Macchina per Allineamento di Minder-Hightech è ciò di cui la tua azienda di produzione ha bisogno per restare un passo avanti sulla concorrenza. Contattaci oggi per godere dei benefici della migliore tecnologia di Allineamento disponibile sul mercato.

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