Macchina per la rimozione del fotoresist al plasma secco ICP ASKING DESCUM, Cina Produttori, Fornitori, Fabbrica di Macchine per la rimozione del fotoresist al plasma secco ICP ASKING DESCUM

Descrizione del prodotto

Macchina per la rimozione della fotoresist al plasma secco ICP

La macchina per la rimozione del fotoresist al plasma secco ICP viene utilizzata principalmente per la rimozione di polimeri, CENERE, DESCUM, rimozione del fotoresist dopo l'impianto di ioni e rimozione dei residui superficiali. La cavità è adatta per campioni da 4-8 pollici, con 1-2 pezzi lavorati in un unico processo.

INCENERE
Rimozione del polimero
Rimozione a secco dello strato duro della maschera
Rimozione della fotoresistenza dopo l'impianto ionico
Rimozione della fotoresistenza nel processo BAW/SAW
Lavaggio a secco dello strato di pellicola grafica antiriflesso
Rimozione residui superficiali
Pulizia della superficie dopo l'incisione
DISCO

CHIEDERE la rimozione del fotoresist DESCUM Dettagli della macchina per la rimozione del fotoresist al plasma secco ICP

CHIEDERE DESCUM rimozione fotoresist Fabbrica di macchine per la rimozione di fotoresist al plasma secco ICP

Specificazione

PLASMA			RF	RF
Potenza	ICP	1000w	1000w
Potenza		SBIECO	600w (opzione)	600w (opzione)
Campo di applicazione applicabile			4~8寸	4~8寸
Conteggio delle singole porzioni di elaborazione			1	2
Dimensioni dell'aspetto			1080x1840x1800mm	1340x2050x1800mm
Controllo del sistema			Sistema di controllo industriale	Sistema di controllo industriale
Livello di automazione			automaticamente in Sistemi	automaticamente in Sistemi

Fabbrica

Dettagli del prodotto

Imballaggio e consegna

Profilo Aziendale

16 anni di esperienza nell'esportazione di apparecchiature! Possiamo fornirti una soluzione completa per processi e apparecchiature front-end per semiconduttori!