RICHIEDO DESCUM Rimozione del Photoresist Macchina per la Rimozione del Photoresist a Plasma Secco ICP , China RICHIEDO DESCUM Rimozione del Photoresist Macchina per la Rimozione del Photoresist a Plasma Secco ICP Manufacturers, Suppliers, Factory

Descrizione del Prodotto

Macchina per la Rimozione di Photoresist con Plasma Secco ICP

La macchina per la rimozione di photoresist con plasma secco ICP è principalmente utilizzata per rimuovere polimeri, ASHING, DESCUM, rimozione di photoresist dopo l'implantazione ionica e rimozione dei residui superficiali. La camera è adatta per campioni da 4 a 8 pollici, con 1-2 pezzi processati in un'unica operazione.

lavaggio
Rimozione di polimeri
Rimozione secca del livello di hard mask
Rimozione di photoresist dopo l'implantazione ionica
Rimozione della fotoresistenza nel processo BAW/SAW
Pulizia a secco del livello di film grafico antiriflesso
Rimozione dei residui di superficie
Pulizia superficiale dopo l'etching
DESCUM

ASKING DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine details

ASKING DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine factory

Specifiche

Plasma			rF	rF
Potenza	ICP	1000W	1000W
Potenza		BIAS	600w(opzione)	600w(opzione)
Ambito applicabile			4~8寸	4~8寸
Conteggio delle fette da elaborare singolarmente			1	2
Dimensioni di aspetto			1080x1840x1800mm	1340x2050x1800mm
controllo del sistema			Sistema di Controllo Industriale	Sistema di Controllo Industriale
Livello di automazione			Automatico	Automatico

Fabbrica

Dettagli del prodotto

Imballaggio & consegna

Profilo dell'azienda

16 anni di esperienza nell'esportazione di attrezzature! Possiamo fornirvi una soluzione completa per i processi e le attrezzature della Front End dei Semiconduttori!