Soluzione integrata per macchine per la rimozione della fotoresist al plasma a microonde per imballaggi di semiconduttori, Cina Produttori, Fornitori, Fabbrica di soluzioni integrate per macchine per la rimozione della fotoresist al plasma a microonde per imballaggi di semiconduttori

Descrizione del prodotto

Macchina per la rimozione della fotoresist al plasma a microonde

Soluzione integrata al plasma per l'imballaggio di semiconduttori

Soluzione integrata per l'imballaggio di semiconduttori

La macchina per la rimozione del fotoresist al plasma a microonde è un sistema di rimozione del fotoresist al plasma a microonde a bassa tensione progettato specificamente per i semiconduttori. Applicando una frequenza di microonde di 2.45 GHz alla finestra sulla parete della camera a vuoto, viene generata una quantità grande e continua di plasma, che entra nella camera per il processo di pulizia del chip. Adatto a diverse dimensioni di scatole di materiale, può soddisfare diverse esigenze e fornire soluzioni personalizzate.

Soluzione integrata per il fornitore di macchine per la rimozione di fotoresist al plasma a microonde per l'imballaggio di semiconduttori

Soluzione integrata per l'imballaggio di semiconduttori Produzione di macchine per la rimozione di fotoresist al plasma a microonde

Specificazione

Sorgente PLASMA	microonde
energia	0-1250W
spazio di lavoro	6 gamme di caricatori (gamma di dimensioni del caricatore: L260mmxW95mmxH190mm)
capacità di elaborazione	Passo 35um/protuberanza 40um. Dimensioni massime della matrice 15x15 mm
Dimensioni dell'aspetto	480mmx470mmx500mm
Controllo del sistema	Sistema di controllo industriale
Livello di automazione	Manuale

Fabbrica

Imballaggio e consegna

Profilo Aziendale

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