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  • Industria dei semiconduttori macchina per la rimozione del PR RIE PLASMA Rimozione residui di Photoresist
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Industria dei semiconduttori macchina per la rimozione del PR RIE PLASMA Rimozione residui di Photoresist

Descrizione del Prodotto

RIE PLASMA Rimuovitore di Photoresist

Etching del carburo di silicio
Pulizia superficiale dopo l'etching
DESCUM
Strato di maschera dura, rimozione secca
Etching dell'ossido di silicio o del nitruro di silicio
Rimozione della resistenza ottica tra i media
Rimozione dei residui di superficie
Semiconductor industry RIE PLASMA PR removal machine Photoresist Residual Removal details
Processo
Semiconductor industry RIE PLASMA PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
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Semiconductor industry RIE PLASMA PR removal machine Photoresist Residual Removal manufacture
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Vantaggio:

vantaggio principale

Alta efficacia di degumming: Plasma ad alta densità, rapida efficacia di degumming
Stabilità: Dopo il trattamento con plasma, alta riproducibilità
Plasma remoto: plasma remoto, basso danno ionico alla wafer
Software caratteristico: ricerca e sviluppo indipendente del software, animazione di processo intuitiva, dati e registrazioni dettagliate
Uniformità: il plasma può controllare la pressione e la temperatura attraverso il valvola a farfalla
Fattore di sicurezza: plasma basso riduce il danno al prodotto durante la scarica.
Servizio dopo vendita: risposta rapida e inventario sufficiente
Controllo della polvere: soddisfa i requisiti dei clienti.
Tecnologia di base: con quasi il 40% dei membri del team di Ricerca e Sviluppo

Piattaforma Cassette (MD-ST 6100/620)

1. 4 Portatopi
2. Alta compatibilità: la flessibilità nella selezione della dimensione del wafer porta ad alta efficienza di costo e soluzione
3. Camera di trasferimento sotto vuoto ad alta stabilità:
La matura e stabile progettazione del trasferimento sotto vuoto è stata applicata sul mercato per molti anni ed è ampiamente riconosciuta dai clienti.
Progettazione a piattaforma rotante, spazio compatto, riduzione significativa del rischio di PARTICOLI
4. Interfaccia operativa software umanizzata:
Interfaccia operativa software intuitiva e umanizzata, monitoraggio in tempo reale dello stato di funzionamento della macchina;
Funzioni di allarme e antierrore comprehensive per evitare errori di manipolazione.
Funzione di esportazione dati potente, registrazioni di vari parametri di processo e esportazione dei record di produzione del prodotto.
Semiconductor industry RIE PLASMA PR removal machine Photoresist Residual Removal manufacture
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Robot

1. Il design di prelievo e posizionamento doppio wafer in un'unica operazione garantisce una produttività elevata
2. Migliora l'efficienza dello spazio.
Semiconductor industry RIE PLASMA PR removal machine Photoresist Residual Removal details
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Piastra di riscaldamento

1. Piastra wafer con controllo della temperatura ad alta precisione
Piastra di riscaldamento per wafer da temperatura ambiente a 250°C, precisione di controllo della temperatura ±1°C
La piastra di riscaldamento per wafer è stata calibrata con strumenti professionali, e l'uniformità è entro ±3°C, garantendo l'uniformità del rimozione della colla
2. Elaborazione dual-wafer in una singola camera
Progettazione dual-wafer in una singola camera;
Progettazione indipendente di scarica elettrica per ogni wafer, garantendo un effetto di rimozione PR circolare su ogni wafer;
Sotto la premessa di garantire l'efficienza UPH, ridurre il costo del prodotto. Grande compatibilità
3. Capacità produttiva: camera di reazione progettata per due pezzi, alta efficienza produttiva.
Semiconductor industry RIE PLASMA PR removal machine Photoresist Residual Removal manufacture
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Specifiche
Fonte di plasma
rF
Potenza
ICP
_
BIAS
1000W(opzione)
Ambito applicabile
4~8 inch
Conteggio delle fette da elaborare singolarmente
1
Dimensioni di aspetto
850mmx900mmx1850mm
controllo del sistema
PLC
Livello di automazione
Manuale
Capacità Hardware
Tempo di attività/Tempo disponibile
≧95%
Tempo medio per pulire (MTTC)
≦6 ore
Tempo medio per riparare (MTTR)
≦4 ore
Tempo medio tra guasti (MTBF)
≧350 ore
Tempo medio tra assistenze (MTBA)
≧24 ore
Wafer medio tra rotture (MWBB)
≦1 su 10.000 wafer
Controllo della piastra riscaldante
50-250°
Rapporto di prova
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Semiconductor industry RIE PLASMA PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
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Vista della Fabbrica
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Imballaggio & consegna
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Profilo dell'azienda
Abbiamo 16 anni di esperienza nella vendita di attrezzature. Possiamo fornirti una soluzione completa per attrezzature della linea di imballaggio front-end e back-end dei semiconduttori dalla Cina!
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