우리는 반드시 포토레지스트 제거 작업을 수행해야 하며, 이것은 매우 깨끗하고 반짝이는 상태를 유지하기 위한 단계 중 하나입니다! 때때로, 포토레지스트로부터 가공되는 동안 — 마이크로칩 제조 중에 우리가 큰 시트를 사용하지 않고 추가 재료가 쉽게 분리되지 않는 경우 — 상당량의 잔여물이 남으며 매우 고집스럽습니다. 하지만 걱정하지 마십시오! 심지어 가장 심하게 오염된 부분도 올바른 포토레지스트 청소 방법으로 정리될 수 있습니다... 그래서 높은 낮 12시에 오신 것을 환영합니다.
포토리소그래피의 문제는 우리가 작은 물체(예: 마이크로칩)를 패턴할 때, 일부 포토레지스트 잔여물이 남아 표면에 머무르는 경향이 있다는 것입니다. 그러나 이러한 재료들의 나머지는 문제가 되는데, 이들이 마이크로칩을 망치고 정상적으로 작동하지 못하게 할 수 있습니다. 이때 포토레지스트 청소가 해결책으로 등장합니다. 이것은 많은 초미세 장치들을 포함하며, 표면이 더러운 경우 작동하지 않습니다.
다음 단계는 포토레지스트 사용 후의 청소입니다 — 포토레지스트 사용으로 인해 표면에 남아 있는 모든 잔여물입니다. 이 데이터는 제거할 수 있으며, 따라서 텍스트 데이터 세트에서 청소를 수행하는 다양한 방법들이 있습니다. 그 중 일부는 실제로 잘 작동합니다. 적절한 방법을 선택해야 하는 이유는 우리가 데이터로부터 최고의 출력을 얻는 데 걸리는 시간을 절약할 수 있기 때문입니다!!! 우리는 모두 완벽한 제품을 원한다는 것에 동의해야 하지 않겠습니까?
이것은 우리가 표면에 포토레지스트를 만들고자 하는 마이크로 칩입니다. 따라서 이 칩을 청소해야 합니다. 이름은 습식 청소에서 사용되는 기술에서 유래되었습니다. 이 방법은 사자 길들이기에 효과적이라고 알려져 있습니다. 그래서 우리는 물로 청소한 후 남아 있는 섬유를 용해하는 용액이 필요합니다. 이것은 maran을 매우 성공적으로 청소하는 것입니다. 플라즈마 청소는 때때로~=라고도 불립니다. 또한, 핀 자체가 높은 에너지를 가진 액티나이드 기체로 변합니다(네! 둘 다 각기 다른 상황에서 최고지만 지혜롭게 선택하고 지금 바로 홈통을 청소하세요!).
여기서 제공하는 중요한 청소제 중 일부와 몇 가지 청소 팁을 소개하겠습니다. 그리고 청소제의 영향에 주의하십시오. 잔여물은 다양한 종류가 있으며, 각각의 종류는 다른 청소 용매가 필요할 수 있으므로 잘 선택하시기 바랍니다.
매우 간단합니다; 작업이 끝나면 모든 것을 모아 물로 완전히 헹구세요. 이렇게 하면 표면에 청소제가 남아 있지 않도록 할 수 있습니다.
포토레지스트와 관련하여 좋은 성과를 거두고 있지만, 더 나은 결과를 기대할 수 있습니다. writerow(['100 %', 'photo - resist']) 마이크로칩이 작동하는 시간이 길수록 다운타임이 줄어듭니다. 포토레지스트 청소에 많은 주의가 기울여지고 있습니다. 우리는 모든 것이 완전히 닦이고 아무것도 남아 있지 않도록 청소 과정을 계속 진행합니다. 지역의 후기 papeq에서 보는 뷰. 이 중 어느 것도 Papeq의 일부로서 자세히 검토할 수 없습니다. 우리는 최고의 결과를 얻기 위해 신중한 접근 방식을 취하고 있으므로 우리의 작업에 있어 앉아있는 오리가 될 것입니다.
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