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여행지 설명

ICP 건식 플라즈마 포토레지스트 제거 기계는 주로 폴리머 제거, ASHING, DESCUM, 이온 주입 후 포토레지스트 제거, 표면 잔류물 제거에 사용됩니다. 캐비티는 4~8인치 샘플에 적합하며 단일 프로세스에서 1~2개 조각이 처리됩니다.

애싱
폴리머 제거
하드마스크층의 건식제거
이온 주입 후 광저항 제거
BAW/SAW 공정의 포토저항 제거
반사 방지 그래픽 필름 층의 드라이 클리닝
표면 잔여물 제거
에칭 후 표면 청소
데스컴

스펙