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차세대 마이크로파 플라즈마 세정기 플라즈마 세정기 반도체 패키징 솔루션 장비 대한민국

여행지 설명

전자레인지 플라즈마 클리너

SPV-100MWR은 반도체용 저전압 마이크로파 플라즈마 세정 시스템입니다. 진공 캐비티 벽면의 창에 2.45GHz 주파수의 마이크로파를 가해 대량의 연속 플라즈마를 생성하고 캐비티에 진입해 칩을 세정하는 방식이다.
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어플리케이션
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스펙
진공 플라즈마 호스트
장비 크기
1230X1800X1100mm(폭x높이x깊이)
무게
450kg
전력 수요
AC380V, 50/60Hz, 5선, 30A
플라즈마 발생기 사양
마이크로파 전원 공급 장치
출력
0 ~ 1250W
진동수
2.45GHz
진공 시스템
자재
알루미늄 합금(맞춤형 스테인레스 스틸 챔버)
두께
25mm
캐비티의 내부 치수
480mmX470mmX480mm
워크스페이스
잡지 섹션 6개
ECR
Slotted Magazine은 ECR 강화된 처리 효과를 제공합니다.
플라즈마 능력
처리 능력
35um 피치
40μm 범프
15X15mm 최대 다이 크기
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제품 상세 정보
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공장 환경
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포장 및 배달
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