PECVD 플라즈마 강화 화학 기상 증착 장비 / 고온 PECVD 공정, 중국 PECVD 플라즈마 강화 화학 기상 증착 장비 / 고온 PECVD 공정 제조업체, 공급업체, 공장

여행지 설명

PECVD 플라즈마 강화 화학 기상 증착 장비

◆ 공정 시간, 온도, 가스 흐름, 밸브 작동 및 반응 챔버 압력의 완전 자동 제어는 다음을 통해 실현됩니다.
산업용 컴퓨터.
◆ 수입된 압력 제어 시스템과 폐쇄 루프 시스템이 채택되어 안정성이 높습니다.
◆ 수입 내식성 스테인레스 스틸 파이프 피팅 및 밸브를 사용하여 가스 회로의 기밀성을 보장합니다.
◆ 완벽한 경보기능과 안전 인터록 장치를 갖추고 있습니다.
◆ 초고온 경보 및 저온 경보, MFC 경보, 반응실 압력 경보, RF 경보, 압축공기 저압 경보, 저N2 압력 경보, 냉각수 유량 저하 경보 등이 있습니다.
◆ 기존 PECVD는 업그레이드 후 SiO2 필름을 성장시키는 기능을 갖고 있어 배터리 모듈의 PID 문제를 해결했다. SiNxOy 필름을 성장(백 패시베이션 공정)할 수 있어 배터리의 변환 효율을 크게 향상시킬 수 있습니다.

PECVD 플라즈마 강화 화학 기상 증착 장비 / 고온 PECVD 공정 세부사항

PECVD 플라즈마 강화 화학 기상 증착 장비 / 고온 PECVD 공정 공장

타입

◆ 선적 수량: 384개/보트(125 * 125); 336개/보트(156*156)
◆ 정화대 청정도 : 100등급 (식물 10000등급)
◆ 자동화 정도 : 온도와 공정을 자동으로 제어합니다.
◆ 칩 전송 및 회수 모드: 연착륙 유형, 안정적이고 신뢰할 수 있는 특성, 크리핑 없음, 정확한 위치 지정, 큰 베어링 용량 및 긴 서비스 수명.

스펙

튜브당 최대 로딩	384개/보트(125125) 336개/보트(156156)
프로세스 지수	정제 내 ± 3%, 정제 간 ± 3%, 배치 간 ± 3%
작동 온도	200 ~ 500 ℃
온도 영역의 정확도 및 길이(정적 폐쇄관 테스트)	1200mm±1℃
가스 흐름 정확도	± 1 % FS
공기 회로 시스템의 기밀성	1×10-7Pa.mXNUMX/S
제어	완전 수입된 자동 압력 폐쇄 루프 조절 시스템, 반응 진공의 정밀 제어; 40KHz 고주파 전력 공급; 공예 보트 연착륙; 완전한 디지털 제어, 완벽하고 안전한 프로세스 제어 보호.
1개의 관, 2개의 관, 3개의 관 및 4개의 관은 선택적입니다; 자동 로딩 조작기는 선택 사항이며 장비 성능은 공정 성능은 세계 최고의 유사한 장비와 비교할 수 있습니다.