빠른 열 처리
복합 반도체, SlC, LED 및 MEMS용 RTP 장비
* 산화물, 질화물 성장
* 오믹 접점 빠른 합금
* 실리사이드 합금의 담금질
* 산화물 재순환
* 갈륨 아르세나이드 공정
* 기타 빠른 열처리 공정
완전 자동 듀얼 챔버 RTP
* 6-8인치 웨이퍼와 호환 가능
* 최대 온도는 1250°c까지 도달 가능
* 안정적인 온도 재현성
* 생산 능력 향상을 위한 완전 자동 듀얼 챔버 설계
* 초고온 필드의 균일성
* SlC 대량 생산 공정 수요 충족
반자동 RTP
* 적외선 할로겐 램프 튜브 가열, 공기 냉각을 사용한 냉각;
* 램프 전력에 대한 PlD 온도 제어로 온도 상승을 정확히 제어하고 좋은 재현성과 온도 균일성을 보장함;
* 물질의 입구는 WAFER 표면에 설정되어 앤닐링 과정 중 차가운 점 생성을 방지하고 제품의 좋은 온도 균일성을 보장함;
* 대기 및 진공 처리 방법 모두 선택할 수 있으며, 본체의 사전 처리 및 정화 가능;
* 두 세트의 공정 가스는 표준이며 최대 6세트의 공정 가스까지 확장 가능함;
* 측정 가능한 단일結晶 실리콘 샘플의 최대 크기는 12인치(300x300MM);
* 안전 온도 개방 보호, 온도 조절기 개방 허가 보호, 장비 응급 정지 안전 보호의 세 가지 안전 조치가 완전히 구현되어 기기의 안전을 보장함;
데스크탑 RTP
* 적외선 할로겐 램프 튜브 가열, 공기 냉각을 사용한 냉각;
* 램프 전력에 대한 PlD 온도 제어로 온도 상승을 정확히 제어하고 좋은 재현성과 온도 균일성을 보장함;
* 물질의 입구는 WAFER 표면에 설정되어 앤닐링 과정 중 차가운 점 생성을 방지하고 제품의 좋은 온도 균일성을 보장함;
* 대기 및 진공 처리 방법 모두 선택할 수 있으며, 본체의 사전 처리 및 정화 가능;
* 두 세트의 공정 가스는 표준이며 최대 6세트의 공정 가스까지 확장 가능함;
* 측정 가능한 단일結晶 실리콘 샘플의 최대 크기는 12인치(300x300MM);
* 안전 온도 개방 보호, 온도 조절기 개방 허가 보호, 장비 응급 정지 안전 보호의 세 가지 안전 조치가 완전히 구현되어 기기의 안전을 보장함;
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