반도체 산업 장비 MDLB-MC200 포토마스크 클리너, 중국 반도체 산업 장비 MDLB-MC200 포토마스크 클리너 제조업체, 공급업체, 공장

MDLB-MC200

포토마스크 클리너

청소 장치:

세척실은 부식 방지 재료로 가공되어 표면이 매끄럽고 세척이 쉽습니다. 내부 캐비티 바닥에 폐기물 배출구가 있어 중력을 이용하여 폐기물 액체를 공장 폐기물 배출 파이프라인으로 배출할 수 있습니다. 캐비티 내부에 흡입구가 있어 캐비티에서 대기를 적시에 추출할 수 있습니다. 3개의 자동 스윙 암이 장착되어 자동 세척을 달성할 수 있습니다.

구성 매개변수 표:

그렇지 않습니다.	프로젝트	제품 사양	비고
1	장비 개요	장비 이름: 포토마스크 클리너
		장비 모델: MDLB-MC200
		전체 치수(대략): 1300mm(폭) * 1000mm(깊이) * 1950mm(높이)
		전체 기계 무게(대략): 300KG
		수술대 높이 : 900 ± 50mm
		기판 크기 사양: 2/4/5/6/8인치 정사각형 마스크 플레이트에 적합
		공정 흐름: 수동 웨이퍼 배치 → 세척(브러쉬, 세척 용액 → 고압 물 → 메가소닉 물 → 탈이온수 → 질소 가스 건조) → 수동 웨이퍼 제거
		장비 유형: 반자동, 수동 적재 및 하역
2	장비 건설	쉘: 스테인리스 스틸, 매끄럽고 부식 방지, 세척 용이
		세척실: PP, 매끄럽고 부식 방지, 세척 용이
		파이프라인 : PU/PFA 매칭 파이프라인을 사용
		작업조명 : 부식방지 황색등 조명
		문 열림 스타일 : 문 열림 알람 기능이 있는 더블 도어
		터치스크린 : 10인치 풀컬러 터치스크린 * 1
		FFU: 100학년
		누수 방지 바닥 지지대: 사용 가능
3	고정밀 서보 모터	수량 : 1
		속도 : -3000~3000rpm	빈 부하
		스핀들 회전 최대 가속도 : 3000rpm/S	빈 부하
		속도 정확도 : ± 1rpm (50rpm~3000rpm)
		속도 분해능: 1rpm
4	자동 스윙 암	수량 : 3
4	자동 스윙 암	스윙암속도 : 1~30 °/S
5	청소 장치	세척 스윙암 : 탈이온수 1채널, 질소가스 1채널 메가소닉 암: 1 메가소닉, 1 고압 수압기 브러시 암: 브러시 1개, 물 1개, 세척 용액 1개
		세척방법 : 자동세척
		탈이온수 흡입 기능 : 가능
		백워시(탈이온수) : 1개 경로
		공급방식 : 세척액 : 다이어프램 펌프 탈이온수 : 공장에서 직접 공급
		액체 레벨 감지 기능이 있는 압력 탱크
6	브러쉬 브러쉬	수량 : 1개 (자체 세척 기능 포함)
		속도: 최대 1000rpm, 조절 가능한 속도
		높이 수동 조절 가능
7	트레이 로드	수량 : 5
		소재 : PPS+스테인리스 스틸
		크기: 2/4/5/6/8인치 정사각형 마스크 플레이트에 적합
		기판 고정 방법 : 클로 고정 방법
8	제어 시스템	제어 시스템 : PLC 제어 사용
		프로그램: 100개 그룹, 각 그룹은 100개 단계로 구성, 최대 단일 단계 시간은 3000.0초 해상도: 0.1S
		프로그램은 저장, 호출, 수정 및 삭제가 가능합니다.
		암호화 권한 설정: 각각 장치 운영자, 기술자, 관리자 및 제조업체에 대해
		신호등 종류 : 적색, 황색, 녹색 3색