Minder-Hightech é um fabricante de semicondutores. Semicondutores são componentes críticos de grande parte do que faz a vida moderna, como telefones celulares e computadores. Agora, existem algumas etapas na criação de semicondutores, mas o primeiro passo é criar um padrão em uma superfície plana conhecida como wafer.

Para renderizar esse padrão, depositamos um material especial no wafer. Essa substância é conhecida como fotoresistente. Depois de aplicarmos o fotoresistente, expomos-no à luz. Sob a luz, uma área do fotoresistente endurece e fica forte. As áreas na sombra permanecem macias e podem ser removidas.

Após obter o padrão desejado no wafer, o fotoresistente deve ser removido das áreas onde realizaremos mais processamento. É aqui que Plasma Cleaner entra em ação, literalmente.

Métodos baseados em plasma para remoção de fotoresistente

O plasma é um estado do gás com um alto nível de energia, devido à aplicação de uma alta carga elétrica. E este gás ativado é altamente útil para remover a fotoresistência na superfície do disco. Através do plasma, a fotoresistência pode se tornar frágil e limpá-la se torna muito mais fácil.

Temos duas técnicas diferentes usando plasma para remoção da fotoresistência: etching seco e ashing.

O etching seco: Nesta técnica, o próprio plasma interage com a fotoresistência. O plasma reage com a fotoresistência onde entra em contato. Essa reação decompõe a fotoresistência e a converte em gás. Esta substância gasosa pode posteriormente ser limpa da superfície do disco, resultando na exposição das áreas que precisamos limpas e disponíveis para progressão.

Ashing — Este é um método diferente para fazê-lo, neste método usa-se plasma não reativo para o fotoresist. O plasma desintegra o fotoresist em pequenas partes. Em seguida, essas pequenas partes podem ser lavadas da wafer. Essa abordagem é adequada e protege a wafer enquanto remove o fotoresist desnecessário.

Usar plasma reativo para remoção de fotoresist

Tratamento de Superfície por Plasma é uma ferramenta muito poderosa que nos ajuda a remover o fotoresist mais resistente da wafer. O plasma é incrível por si só, mas a melhor parte é que podemos transformá-lo em um agente super seletivo. Isso significa que ele pode ser ajustado para reagir apenas especificamente com o fotoresist, não com os outros materiais abaixo dele.

Por exemplo: Se tivermos um padrão no disco onde o metal está colocado sob o fotoresist, podemos usar um tipo de plasma que reage apenas com o fotoresist. Assim, podemos gravar o fotoresist sem danificar o metal abaixo dele. Agora, isso é muito crítico, pois precisamos que todas as partes do disco mantenham sua integridade durante o processo.

A Técnica de Plasma para Remoção de Fotoresist

A Minder-Hightech utiliza tecnologia de plasma moderna para remover o fotoresist dos nossos discos. Isso nos permite fabricar semicondutores livres de erros, de alta qualidade.

Rápido, ajustável às suas necessidades. Nossos sistemas são projetados para se integrar perfeitamente ao seu fluxo de trabalho. Isso significa que somos capazes de remover o fotoresist rapidamente. E porque somos rápidos, atendemos plenamente à demanda de nossos clientes, entregando ótimos produtos quando eles precisam.

No entanto, nossos sistemas de plasma também são muito precisos, além de sua eficiência. O que essa precisão nos proporciona é a capacidade de remover apenas o fotoresistente em si. Nossa tecnologia impede que todas as outras partes do disco sejam danificadas durante nosso processo, e não podemos nos dar ao luxo de fazer isso. Essa prática metódica se torna ainda mais essencial para a qualidade dos semicondutores que fabricamos.

Remoção de Fotoresistente Induzida por Plasma em Semicondutores

Então, em resumo, o plasma é um superpoder que nos permite remover parte do fotoresist da superfície do disco de silício de maneira altamente eficaz. Na Minder-Hightech, aplicamos a tecnologia de plasma mais recente e avançada para produzir semicondutores de qualidade exatamente zero defeituosos. Quando se trata de sistemas de plasma, nossas soluções são fabricadas para equilibrar velocidade com precisão, ainda sendo muito eficientes. Isso significa atender às demandas dos nossos clientes, além de entregar produtos de qualidade sem falhar. O que busca melhorar o processo de semicondutores conforme utilizamos remoção de plasma tecnologia que torna nossos semicondutores tão bons quanto possível para todos os tipos de dispositivos eletrônicos, garantindo gadgets confiáveis.