Máquina de remoção de fotorresistência ASKING DESCUM ICP Plasma seco, China Máquina de remoção de fotorresistência ASKING DESCUM ICP Plasma seco Fabricantes, fornecedores, fábrica

Descrição do Produto

Máquina de remoção fotorresistente de plasma seco ICP

A máquina de remoção de fotorresistente de plasma seco ICP é usada principalmente para remover polímeros, ASHING, DESCUM, remoção de fotorresistente após implantação de íons e remoção de resíduos de superfície. A cavidade é adequada para amostras de 4 a 8 polegadas, com 1 a 2 peças processadas em um único processo.

CINZENTO
Remoção de polímero
Remoção a seco da camada dura da máscara
Remoção de fotorresistência após implantação iônica
Remoção de fotorresistência no processo BAW/SAW
Limpeza a seco da camada de filme gráfico anti-reflexo
Remoção de resíduos de superfície
Limpeza de superfície após gravação
DESCUM

PEDINDO DESCUM detalhes da máquina de remoção de fotorresistente de plasma seco ICP para remoção de fotorresistente

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Especificação

PLASMA			RF	RF
Energia	ICP	1000w	1000w
Energia		BIAS	600 W (opção)	600 W (opção)
Escopo aplicável			4~8°	4~8°
Contagem de fatias de processamento único			1	2
Dimensões de aparência			1080x1840x1800mm	1340x2050x1800mm
Controle de sistema			Sistema de controle industrial	Sistema de controle industrial
Nível de automação			automático	automático

Fábrica

Detalhes do produto

Embalagem e entrega

Perfil

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