Equipamento CVD para Materiais de Grafeno e Nanotubos de Carbono / Equipamento semicondutor , China Equipamento CVD para Materiais de Grafeno e Nanotubos de Carbono / Equipamento semicondutor Manufacturers, Suppliers, Factory

Descrição do Produto

Equipamento CVD para materiais de grafeno e nanotubos de carbono

O equipamento é主要用于para o revestimento de processos de grafeno e materiais nano; Difusão, oxidação e anelagem de silício policristalino e carbeto de silício.

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment details

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment factory

Especificações

estilo estrutural	Horizontal, sistema de tubo único ou multi-tubo com controle automático
Adaptável ao tamanho de wafer	2-8″
Método de entrega e recuperação de wafer	Barco de quartzo de empurrar-puxar automático, combinado com a coleta e liberação manual de chips.
Temperatura máxima	1050℃
Temperatura de Trabalho	400 ℃~850 ℃ continuamente ajustável
Estabilidade de temperatura em um ponto	400℃~850℃≤±0,5℃/24h
Vácuo limite do sistema	Melhor que 1Pa
velocidade de bombeamento	Tempo de bombeamento até o vácuo limite < 15Min
faixa de pressão de trabalho	5Pa para 1 × 105Pa continuamente ajustável
Fonte de alimentação	3 fases 5 fios 380V±10%, 50Hz
Água de Resfriamento	2~4Kgf/cm², 8L/min;

Embalagem e Entrega

Perfil da Empresa

Temos 16 anos de experiência em vendas de equipamentos. Podemos fornecer uma solução profissional completa para linhas de embalagem de semicondutores de frente e trás da China.