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  • Sistema totalmente automático de câmara dupla para Processamento Térmico Rápido (RTP)
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Sistema totalmente automático de câmara dupla para Processamento Térmico Rápido (RTP)

Descrição do Produto

Processamento Térmico Rápido

Fornecer equipamentos RTP confiáveis para semicondutores compostos, SlC, LED e MEMS

Aplicações na indústria

* Temperagem de liga de siliceto
* Refluxo de oxidação
* Processo de arseneto de gálio
* Outros processos de tratamento térmico rápido
Especificações
Relatório de teste
Coincidência das curvas de 20 graus
20 curvas de controle de temperatura a 850 ℃
Coincidência de 20 curvas de temperatura média
Controle de temperatura a 1250 ℃
Controle de temperatura RTP
Processo a 1000 ℃
Processo a 960 ℃, controlado por pirômetro infravermelho
Dados de processo LED
O RTD Wafer é um sensor de temperatura que utiliza técnicas de processamento especiais para incorporar sensores de temperatura (RTDs) em locais específicos na superfície de um wafer, permitindo a medição em tempo real da temperatura da superfície do wafer.

Medições reais de temperatura em locais específicos no wafer e a distribuição geral de temperatura do wafer podem ser obtidas através do RTD Wafer; Ele também pode ser usado para monitoramento contínuo de mudanças de temperatura transitórias nos wafers durante o processo de tratamento térmico.
Embalagem e Entrega
Perfil da Empresa
Temos 16 anos de experiência em vendas de equipamentos. Podemos fornecer a você uma solução completa para equipamentos de linha de embalagem de semicondutores, tanto no frontend quanto no backend, da China!

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