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Descrição do Produto

Máquina de remoção de fotorresiste de plasma de microondas

Solução integrada de plasma para embalagens de semicondutores

Solução Integrada para Embalagem de Semicondutores

A máquina de remoção de fotorresiste de plasma de microondas é um sistema de remoção de fotorresistente de plasma de microondas de baixa tensão projetado especificamente para semicondutores. Ao aplicar uma frequência de micro-ondas de 2.45 GHz na janela da parede da câmara de vácuo, é gerada uma grande e contínua quantidade de Plasma, que entra na câmara para limpeza do processo do chip. Adequado para diferentes tamanhos de caixas de materiais, pode atender a diferentes necessidades e fornecer soluções customizadas.

Solução integrada para embalagem de semicondutores Fabricação de máquina de remoção fotorresistente de plasma por micro-ondas

Especificação

Fonte de PLASMA	microondas
poder	0-1250W
espaço de trabalho	6 faixas de magazine (faixa de tamanho de magazine: L260mmxL95mmxH190mm)
capacidade de processamento	35um Pitch/40um Bump15x15mm tamanho máximo da matriz
Dimensões de aparência	480mmx470mmx500mm
Controle de sistema	Sistema de controle industrial
Nível de automação	manual

Fábrica

Embalagem e entrega

Perfil

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