estrutura |
ilustrar |
Expondo a bancada |
Área de exposição: bancada, área de colocação do substrato |
Sistema óptico |
Área de formação de emissão a laser |
Sistema de controle ambiental |
Controle da temperatura e pressão positiva interna do dispositivo |
Sistema de plataforma |
Controla o movimento da mesa de exposição para completar a operação do caminho de exposição |
Sistema de Controle |
Sistema de controle de todo o equipamento |
Não. |
Ambiente |
Exigir |
1 |
Ambiente de fonte de luz |
Luz amarela |
2 |
Temperatura |
22℃±2℃ |
3 |
Umidade |
50%±10% |
4 |
Limpeza |
1000 |
5 |
CDA |
0.6±0.1Mpa, 200LPM, ar seco e limpo |
6 |
Fonte de alimentação |
220~240V, 50/60Hz, 2.5KW; O fio terra deve estar aterrado, |
7 |
Água de Resfriamento |
Temp.：10℃~ 20℃ Pressão：0,3MPa ~ 0,5MPa Vazão：20L/min Diferença de pressão：0,3MPa acima Calibre da conexão：Rc3/8 |
8 |
Local de realização |
nível：±3mm/3000mm vibração：VC-B Rolamento：750kg/㎡ |
10 |
Internet |
Uma porta de rede |
11 |
Tamanho da máquina |
1300*1100*2100mm |
12 |
Peso do dispositivo |
1500kg |
Não. |
Projeto |
Especificações. |
Observação |
1 |
Resolução |
0,6um/ou outra exigência |
AZ703、AZ1350 |
2 |
CDU |
±10%@1um |
|
3 |
Espessura do substrato |
0.2mm～4mm |
|
4 |
Precisão da grade de data |
60nm |
|
5 |
Sobreposição |
±500nm |
130mmx130mm |
6 |
Precisão de emenda |
±200nm |
AZ703 |
7 |
Tamanho máximo de exposição |
190X190mm |
|
8 |
Capacidade de Produção |
≥300mm²/min |
≤50mj/cm²; |
9 |
fonte de luz |
LD 375nm |
|
10 |
potência da luz |
6W |
|
11 |
Uniformidade de energia |
≥95% |
|
12 |
vida útil da luz |
10000h |
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