Host de plasma a vácuo (200) | ||||
Tamanho do equipamento | 1050×1700×1050mm (largura, altura e profundidade) | |||
peso | 800Kg | |||
poder de demanda | AC380V,50/60Hz,5wires, 30A | |||
Especificações do gerador de plasma | ||||
principal fonte de energia | frequência de rádio | IF | ||
0 ~ 1000W | 0-2000W | |||
Freqüência de potência | 13.56MHz | 40 KHz | ||
Sistema de vácuo | ||||
bomba de vácuo | Bomba unipolar Feiyue VSV100 + bomba Ambas Roots BSJ70 | |||
linha de vácuo | Todos os tubos de aço inoxidável e foles de vácuo de alta resistência | |||
material | Liga de alumínio | |||
espessura | 25mm | |||
aperto | Selo soldado de nível militar | |||
Dimensões Internas da Cavidade | 600×600×600mm(L×A×P) | |||
Tamanho efetivo da placa do eletrodo | 472 x 451 mm (L×P) | |||
espaço disponível | 35mm | |||
Layout da placa de eletrodo | Placa de eletrodo horizontal | |||
bandeja de trabalho | Um conjunto é padrão e o material é opcional (alumínio, malha de aço) | |||
Área de trabalho | pisos 8 | |||
Gás de processo | ||||
Faixa de fluxo | 0~300SCCM | |||
Circuito de gás de processo | Equipado com gás de três vias O2, Ar, N2 | |||
Sistema de controle | ||||
controle de sistema | controle de PC | |||
modo interativo | Interface do Windows |
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