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MDPS-560 Sistema de Sputtering Duplo em Forma de Pêra / Equipamento para a indústria semicondutora

Descrição do Produto

MDPS-560 Sistema de Deposição por Borrachamento de Dupla Câmera Píriforme

Usado para preparar filmes nano funcionais de camada única/multi-camada, incluindo vários filmes duros, metálicos, semicondutores e dielétricos para universidades e instituições científicas.

Câmara de vácuo por esputação, alvo de esputação por magnetron, mesa giratória com aquecimento de substrato a água refrigerada, câmara de injeção de amostra, câmara de amostra, anelador, alvo de lavagem inversa, mecanismo de envio de amostras magnéticas, circuito de gás, sistema de bombeamento, sistema de medição de vácuo, sistema de controle elétrico e base de montagem.
MDPS-560 Pyriform Double Chamber Sputtering System / Semiconductor industry equipment manufacture
Especificações
Tipo
MDPS-560 II
Câmara Principal de Esputação
câmara de vácuo em forma de pera, tamanho: Φ560×350mm
Câmara de Injeção de Amostra
tipo cilíndrico e horizontal, tamanho: Φ250mm×420mm
Sistema de bombeamento
conjunto independente de bomba molecular composta e bomba mecânica para câmara principal de esputação e câmara de injeção de amostra.
Vácuo Final
Câmara Principal de Esputação
≤6,67×10-6Pa (após o forno e desgaseificação)
Câmara de Injeção de Amostra
≤6,67×10-4Pa (após o forno e desgaseificação)
Tempo de Vácuo Recuperado
Câmara Principal de Esputação
6,6×10-4Pa após 40 min. (bombagem após breve exposição ao ar e preenchida com nitrogênio seco)
Câmara de Injeção de Amostra
6,6×10-3Pa após 40 min. (bombagem após breve exposição ao ar e preenchida com nitrogênio seco)
Módulo de Alvo de Magnetron
5 alvos permanentes de ímã; tamanho Φ60mm (um dos alvos pode esputar material ferromagnético). Todos os alvos podem realizar esputação RF
e esputação DC compatível; e a distância entre o alvo e a amostra é ajustável de 40mm a 80mm.
Tabela de Revolução de Aquecimento do Substrato com Resfriamento por Água
Estrutura do Substrato
Seis estações, forno de aquecimento instalado em uma estação, e as outras são estações de substrato resfriadas por água.
Tamanho
Φ30mm, seis peças.
Modo de movimento
0-360°, recíproco.
Aquecimento
Temperatura máxima 600℃±1℃
Substrato com Polarização Negativa
-200V
Sistema de Circuito de Gás
Controlador de Fluxo de Massa (MFC) de 2 vias
Câmara de Injeção de Amostra
Câmara de Amostras
Seis peças de uma vez
Anelador
Temperatura máxima de aquecimento 800℃±1℃
Módulo de Alvo de Reposição
Limpeza por Reposição
Sistema de Envio de Amostras Magnéticas
Usado para transporte de amostras entre a câmara de sputtering e a câmara de injeção de amostras.
Sistema de Controle Computadorizado
Rotação da amostra, abertura e fechamento do bocal e controle da posição do alvo
Espaço Ocupado no Chão
Conjunto Principal
2600×900mm2
gabinete elétrico
700×700mm2 (dois conjuntos)
Embalagem e Entrega
MDPS-560 Pyriform Double Chamber Sputtering System / Semiconductor industry equipment factory
MDPS-560 Pyriform Double Chamber Sputtering System / Semiconductor industry equipment factory
Perfil da Empresa
Temos 16 anos de experiência em vendas de equipamentos. Podemos fornecer uma solução profissional completa para linhas de embalagem de semicondutores de frente e trás da China.

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