Sistema de pulverização catódica de câmara dupla piriforme MDPS-560 / Equipamento para a indústria de semicondutores, China Sistema de pulverização catódica de câmara dupla piriforme MDPS-560 / Equipamento para a indústria de semicondutores Fabricantes, fornecedores, fábrica

Descrição do Produto

Sistema de pulverização catódica piriforme de câmara dupla MDPS-560

Usado para preparar nanofilmes funcionais de camada única/multicamada, incluindo vários filmes duros, metálicos, semicondutores e dielétricos para universidades e instituições científicas.

Câmara de vácuo de pulverização catódica, alvo de pulverização catódica magnetron, plataforma giratória de aquecimento de substrato de resfriamento de água, câmara de injeção de amostra, câmara de amostra, recozimento, alvo de retrolavagem, mecanismo de envio de amostra magnética, circuito de gás, sistema de bombeamento, sistema de medição de vácuo, sistema de controle elétrico e base de montagem.

Sistema de pulverização catódica da câmara dobro Pyriform MDPS-560/fabricação de equipamentos da indústria de semicondutores

Especificação

Formato			MDPS-560II
Câmara Principal de Sputtering			câmara de vácuo piriforme, tamanho:Φ560×350mm
Câmara de injeção de amostra			tipo cilíndrico e horizontal, tamanho: Φ250mm×420mm
Sistema de bombeamento			bomba molecular composta independente e conjunto de bomba mecânica para câmara principal de pulverização catódica e câmara de injeção de amostra.
Vácuo final	Câmara Principal de Sputtering	≤6.67×10-6Pa(após cozimento e desgaseificação)
Vácuo final		Câmara de injeção de amostra	≤6.67×10-4Pa(após cozimento e desgaseificação)
Recuperar o tempo de vácuo	Câmara Principal de Sputtering	6.6×10-4Pa após 40 min.(bombeamento após curto período exposto ao ar e preenchido com nitrogênio seco)
Recuperar o tempo de vácuo		Câmara de injeção de amostra	6.6×10-3Pa após 40 min.(bombeamento após curto período exposto ao ar e preenchido com nitrogênio seco)
Módulo alvo magnetron			5 alvos magnéticos permanentes; sizeΦ60mm (um dos alvos pode pulverizar material ferromagnético). Todos os alvos podem pulverizar RF e pulverização catódica DC compatível; e a distância entre o alvo e a amostra ajustável de 40 mm a 80 mm.
Tabela de revolução de aquecimento de substrato para resfriamento de água	Estrutura do Substrato	Seis estações, forno de aquecimento instalado em uma estação e as demais são estações de substrato de resfriamento de água.
		Tamanho	Φ30mm, seis fotos.
		Modo de movimento	0-360°, retribuir.
		Aquecimento	Máx. Temperatura 600°C±1°C
		Viés negativo do substrato	-200V
Sistema de Circuito de Gás			Controlador de fluxo de massa de 2 vias (MFC)
Câmara de injeção de amostra	Câmara de Amostra	Seis simples uma vez
		Recozedor	Máx. temperatura de aquecimento 800°C±1°C
		Módulo de alvo de resputtering	Limpeza de respingo
Sistema de envio de amostra magnética			Usado para transporte de amostras entre a câmara de pulverização catódica e a câmara de injeção de amostra.
Sistema de controle de computador			Rotação da amostra, abertura e fechamento do defletor e controle da posição do alvo
Andar Ocupado	Conjunto Principal	2600 × 900mm2
Andar Ocupado		Cabine elétrica	700×700mm2(dois conjuntos)

Embalagem e entrega

Sistema de pulverização catódica da câmara dobro Pyriform MDPS-560/fábrica de equipamentos da indústria de semicondutores

Perfil

Temos 16 anos de experiência em vendas de equipamentos. Podemos fornecer a você uma solução profissional de equipamentos de linha de pacotes front-end e back-end de semicondutores completos da China.