Plasma
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RF
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RF
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Poder
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ICP
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1000W
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1000W
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BIAS
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600w(opção)
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600w(opção)
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Ámbito de Aplicação
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4~8 polegadas
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4~8 polegadas
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Contagem de fatias de processamento única
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1
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2
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Dimensões externas
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1080x1840x1800mm
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1340x2050x1800mm
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controlo do sistema
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Sistema de Controle Industrial
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Sistema de Controle Industrial
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Nível de automação
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Automático
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Automático
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Capacidade de Hardware
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Tempo de funcionamento / Tempo disponível
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≧95%
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Tempo médio para limpeza (MTTC)
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≦6 horas
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Tempo médio para reparo (MTTR)
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≦4 horas
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Tempo médio entre falhas (MTBF)
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≧350 horas
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Tempo médio entre assistente (MTBA)
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≧24 horas
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Média de wafer entre quebras (MWBB)
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≦1 em 10.000 wafers
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Controle do placa de aquecimento
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50-250°
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