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Descrição dos Produtos

Solução de embalagem de semicondutores Limpador de plasma para micro-ondas

SPV-100MWR é um sistema de limpeza de plasma de micro-ondas de baixa tensão para semicondutores. Ao aplicar micro-ondas com frequência de 2.45 GHz na janela na parede da cavidade de vácuo, um grande número de plasma contínuo é gerado e o chip é limpo ao entrar na cavidade.
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Parâmetros técnicos
Hospedeiro de plasma a vácuo
Tamanho do equipamento
1230X1800X1100mm (largura x altura x profundidade)
Peso
450kg
demanda de energia
AC380V, 50/60 Hz, 5 fios, 30A
Especificações do gerador de plasma
Fonte de alimentação de microondas
Energia
0 ~ 1250W
Frequência
2.45GHz
Sistema de vácuo
Material
Liga de alumínio (câmara de aço inoxidável personalizável)
Espessura
25mm
Dimensões internas da cavidade
480mmX470mmX480mm
Espaços de trabalho
6 seções de revista
ECR
Slotted Magazine fornece efeito de processamento aprimorado ECR
Capacidade de plasma
Capacidade de processamento
Passo 35um
Colisão de 40 μm
Tamanho máximo da matriz de 15X15mm
Aplicações
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Fábrica
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