Echipamente CVD pentru Materiale Grafene și Nanotuburi de Carbon / Echipamente pentru semiconductori , China Echipamente CVD pentru Materiale Grafene și Nanotuburi de Carbon / Echipamente pentru semiconductori Manufacturers, Suppliers, Factory

Descriere produs

Echipament CVD pentru materiale de grafen și nanotuburi de carbon

Echipamentul este destinat în principal procesului de încapotare a grafenului și a materialelor nano; Difuzare, oxidare și anelaj al siliciului policristalin și carbidei de siliciu.

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment details

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment factory

Specificitați

stil structural	Orizontal, sistem cu un singur tub sau multi-tub automat controlat
Se adaptează la dimensiunea plăcii	2-8″
Metodă de livrare și recuperare a plăcii	Barcă cu cantilivă cualtz automată tip încât și eliberare, combinată cu preluarea și eliberarea manuală a plăcilor.
Temperatura maximă	1050℃
Temperatură de funcționare	400 ℃~850 ℃ ajustare continuă
Stabilitate temperatură unică punct	400℃~850℃≤±0.5℃/24h
Sistem limită vacum	Mai bun de 1Pa
viteză de pompare	Timp de pompare până la vacum limită < 15Min
interval de presiune de lucru	De la 5Pa la 1 × 105Pa ajustare continuă
Sursă de Alimentare	3 faze 5-conductor 380V±10%, 50Hz
Apa de răcire	2~4Kgf/cm², 8L/min;

Împachetare și livrare

Profilul companiei

Avem 16 ani de experiență în vânzarea de echipamente. Putem să vă oferim o soluție profesională integrală pentru linia de ambalaj a extremului anterior și posterior al semiconductoanelor din China.