Folosit în principal pentru dezvoltarea și producția de circuite integrate mici și mijlocii, componente semiconductoare, dispozitive optoelectronice, dispozitive cu unde acustice de suprafață, circuite cu film subțire și dispozitive electronice de putere. Această mașină este o mașină de expunere cu contact pe două fețe, cu un mecanism de reimprimare special conceput care poate elimina erorile de pene de substrat și poate asigura un contact bun între plăcile de mască superioară și inferioară de pe părțile superioare și inferioare ale substratului, asigurând astfel calitatea expunerii părțile superioare și inferioare ale substratului.
Specificație
Parametrii tehnici principali
1.Energie necesară pentru echipamente: sursa de alimentare mainframe: 220V, 50HZ, consumul de energie≤1.5KW; 2.Echipată cu o pompă de vid cu o sursă de alimentare de 220V; 3. Dimensiune și greutate: Dimensiune: 1200 (lungime) × 720 (lățime) × 1500 (înălțime). Greutate ≤170kg; 4. Așezați corpul mașinii pe un banc de lucru dedicat; 5.Tip de expunere: tip de contact, aliniere plăci, expunere față-verso; 6.Zona de expunere:φ100mm; 7.Expunere neuniformă: ≤±3%; 8.Intensitatea expunerii: ≥5mw/cm2; 9.Rezoluția expunerii: 2μm; 10.Mod de expunere: expunere simultană dublu față; 11.Interval de aliniere: X: ±5mm Y:±5mm; 12.Precizie gravura: 2μm; 13.Interval de rotație: ajustarea rotației direcției Q≤±5°; 14.Sistem microscopic: sistem CCD cu câmp vizual dublu, obiectiv obiectiv 1.6X~10X, sistem computer de procesare a imaginii, monitor LCD de 19"; 15.Mărimea măștii: Capabil de adsorbție în vid
Ambalare și livrare
Profilul companiei
Avem 16 ani de experiență în vânzarea de echipamente. Vă putem oferi o soluție profesională pentru echipamente de linie de pachete de front-end și back-end cu semiconductor unic din China.
EN
AR
BG
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
KO
NU
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
IW
ID
LT
SR
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
IS
HY
AZ
KA
