* Încălzire cu tub cu lampă halogen infraroşu, răcire folosind răcire cu aer;
* Control temperaturi PlD pentru puterea lampii, care poate controla precis creşterea temperaturii, asigurând o bună reproductibilitate şi uniformitate a temperaturii;
* Intrarea materialului este plasată pe suprafaţa WAFER pentru a evita producerea de puncte frige în timpul procesului de anelaj, asigurând o bună uniformitate a temperaturii a produsului;
* Se pot selecta atât metode de tratare atmospherică cât şi sub vid, cu pretratare şi purificare a corpului;
* Două seturi de gaze procesuale sunt standard şi pot fi extinse până la maximum 6 seturi de gaze procesuale;
* Dimensiunea maximă a unei probe de siliciu monocristalin măsurabile este de 12 inch (300x300MM);
* Cele trei măsuri de siguranţă ale protecţiei de deschidere la temperaturi sigure, protecţia de permisiune de deschidere a controlului de temperatură şi protecţia de oprire de urgenţă a echipamentelor sunt implementate în totalitate pentru a asigura siguranţa instrumentului;