Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

Acasă
Despre noi
Echipamente MH
Soluţie
Utilizatori de peste ocean
Video
Contact
product semiconductor industry rie plasma pr removal machine photoresist residual removal-42
Acasă> eliminare PR RTP USC
  • Industria semiconductoarelor RIE PLASMA PR Mașină de îndepărtare Photoresist Residual Removal
  • Industria semiconductoarelor RIE PLASMA PR Mașină de îndepărtare Photoresist Residual Removal
  • Industria semiconductoarelor RIE PLASMA PR Mașină de îndepărtare Photoresist Residual Removal
  • Industria semiconductoarelor RIE PLASMA PR Mașină de îndepărtare Photoresist Residual Removal
  • Industria semiconductoarelor RIE PLASMA PR Mașină de îndepărtare Photoresist Residual Removal
  • Industria semiconductoarelor RIE PLASMA PR Mașină de îndepărtare Photoresist Residual Removal
  • Industria semiconductoarelor RIE PLASMA PR Mașină de îndepărtare Photoresist Residual Removal
  • Industria semiconductoarelor RIE PLASMA PR Mașină de îndepărtare Photoresist Residual Removal
  • Industria semiconductoarelor RIE PLASMA PR Mașină de îndepărtare Photoresist Residual Removal
  • Industria semiconductoarelor RIE PLASMA PR Mașină de îndepărtare Photoresist Residual Removal

Industria semiconductoarelor RIE PLASMA PR Mașină de îndepărtare Photoresist Residual Removal România

descrierea produsului

RIE PLASMA Eliminator de fotorezist

Gravare cu carbură de siliciu
Curățarea suprafeței după gravare
DESCUM
Strat dur de mască, îndepărtare uscată
Gravarea cu oxid de siliciu sau nitrură de siliciu
Îndepărtarea rezistenței optice între medii
Îndepărtarea reziduurilor de suprafață
Industria semiconductorilor Mașină de îndepărtare RIE PLASMA PR Photoresist Residual Removal Detalii
Proces
Industria semiconductoare Mașină de îndepărtare RIE PLASMA PR Fabrică de îndepărtare a reziduurilor de fotorezist
Industria semiconductorilor Mașină de îndepărtare RIE PLASMA PR Photoresist Residual Removal Detalii
Industria semiconductoarelor RIE PLASMA PR mașină de îndepărtare Photoresist Residual Removal Fabricare
Industria semiconductoarelor RIE PLASMA PR mașină de îndepărtare Photoresist Residual Removal Fabricare
Industria semiconductoare Mașină de îndepărtare RIE PLASMA PR Fabrică de îndepărtare a reziduurilor de fotorezist
Avantaj:

Avantajul de bază

Rată mare de degumare: plasmă de înaltă densitate, viteză rapidă de degumare
Stabilitate: După tratamentul cu plasmă, reproductibilitate ridicată
Plasmă de la distanță: Plasmă de la distanță, deteriorare scăzută a ionilor la plachetă
Software recomandat: cercetare și dezvoltare independentă de software, animație intuitivă a procesului, date și înregistrări detaliate
Uniformitate: Plasma poate controla presiunea și temperatura prin supapa fluture
Factor de siguranță: Plasma scăzută reduce deteriorarea descărcării produsului.
Serviciu post-vânzare: răspuns rapid și inventar suficient
Controlul prafului: satisface cerințele clienților.
Tehnologia de bază: Cu aproape 40% din membrii echipei de cercetare și dezvoltare

Platformă casetă (MD-ST 6100/620)

1. 4 Purtători de napolitane
2. Compatibilitate ridicată: flexibilitatea selecției dimensiunii plachetelor aduce costuri ridicate și eficiență a soluției
3. Cameră de transfer în vid de înaltă stabilitate:
Designul matur și stabil al transmisiei în vid a fost aplicat matur pe piață de mulți ani și este bine recunoscut de clienți.
Design placă turnantă, spațiu compact, reducând semnificativ riscul de PARTIC
4. Interfață de operare software umanizată:
Interfață de operare software umanizată intuitivă, monitorizare în timp real a stării de funcționare a mașinii;
Alarma cuprinzătoare și funcții sigure pentru a evita operarea greșită.
Funcție puternică de export de date, înregistrări ale diferiților parametri ai procesului și exportul înregistrărilor producției de produse.
Industria semiconductoarelor RIE PLASMA PR mașină de îndepărtare Photoresist Residual Removal Fabricare
Industria semiconductoarelor RIE PLASMA PR mașină de îndepărtare Photoresist Residual Removal Fabricare

Robotul

1. Designul unic de alegere și plasare dublă aduce o productivitate ridicată
2. Îmbunătățiți eficiența spațiului.
Industria semiconductorilor Mașină de îndepărtare RIE PLASMA PR Photoresist Residual Removal Detalii
Industria semiconductoarelor RIE PLASMA PR mașină de îndepărtare Photoresist Residual Removal Fabricare

Placă de încălzire

1. Placă de control al temperaturii de înaltă precizie
Placă de încălzire a plachetelor de la temperatura camerei până la 250°C, precizia controlului temperaturii ±1°C
Placa de încălzire a plachetelor a fost calibrată de instrumente profesionale, iar uniformitatea. În intervalul de ±3°C, asigurați uniformitatea îndepărtării lipiciului
2. Prelucrare cu o singură cameră dual-wafer
Design cu o singură cameră cu două napolitane;
Design independent de descărcare de putere pentru fiecare wafer, asigurându-se că fiecare wafer. Efect de îndepărtare a PR rotund;
Sub premisa asigurării eficienței UPH, reduceți costul produsului. Compatibilitate puternică
3. Capacitate de producție: cameră de reacție cu design din două piese, eficiență ridicată a producției.
Industria semiconductoarelor RIE PLASMA PR mașină de îndepărtare Photoresist Residual Removal Fabricare
Industria semiconductorilor Mașină de îndepărtare RIE PLASMA PR Photoresist Residual Removal Detalii
Specificație
Sursa de PLASMA
RF
Alimentare
ICP
_
PĂRTINIRE
1000W (opțiune)
Domeniul de aplicare aplicabil
4 ~ 8 inch
Număr de felii de procesare unică
1
Dimensiunile aspectului
850mmx900mmx1850mm
Controlul sistemului
PLC
Nivel de automatizare
Manual
Capacitate hardware
Timp de funcționare/Timp disponibil
≧ 95%
Timpul mediu de curățare (MTTC)
≦6 ore
Timpul mediu de reparație (MTTR)
≦4 ore
Timpul mediu dintre defecțiuni (MTBF)
≧350 ore
Timpul mediu dintre asistent (MTBA)
≧24 ore
Napolitana medie între rupte (MWBB)
≦1 la 10,000 de napolitane
Controlul plăcii de încălzire
50-250 °
Raport de testare
Industria semiconductorilor Mașină de îndepărtare RIE PLASMA PR Photoresist Residual Removal Detalii
Industria semiconductoarelor RIE PLASMA PR mașină de îndepărtare Photoresist Residual Removal Furnizor
Industria semiconductoare Mașină de îndepărtare RIE PLASMA PR Fabrică de îndepărtare a reziduurilor de fotorezist
fabrica Vezi
Industria semiconductoare Mașină de îndepărtare RIE PLASMA PR Fabrică de îndepărtare a reziduurilor de fotorezist
Industria semiconductoare Mașină de îndepărtare RIE PLASMA PR Fabrică de îndepărtare a reziduurilor de fotorezist
Ambalare și livrare
Industria semiconductoare Mașină de îndepărtare RIE PLASMA PR Fabrică de îndepărtare a reziduurilor de fotorezist
Industria semiconductorilor Mașină de îndepărtare RIE PLASMA PR Photoresist Residual Removal Detalii
Profilul companiei
Avem 16 ani de experiență în vânzarea de echipamente. Vă putem oferi o soluție unică pentru echipamente de linie de pachete pentru interfață și back-end Semiconductor din China!
Industria semiconductoare Mașină de îndepărtare RIE PLASMA PR Fabrică de îndepărtare a reziduurilor de fotorezist
Industria semiconductoare Mașină de îndepărtare RIE PLASMA PR Fabrică de îndepărtare a reziduurilor de fotorezist
Industria semiconductoarelor RIE PLASMA PR mașină de îndepărtare Photoresist Residual Removal Fabricare
Industria semiconductoare Mașină de îndepărtare RIE PLASMA PR Fabrică de îndepărtare a reziduurilor de fotorezist

Anchetă

product semiconductor industry rie plasma pr removal machine photoresist residual removal-81Anchetă product semiconductor industry rie plasma pr removal machine photoresist residual removal-82E-mail product semiconductor industry rie plasma pr removal machine photoresist residual removal-83WhatsApp product semiconductor industry rie plasma pr removal machine photoresist residual removal-84 WeChat
product semiconductor industry rie plasma pr removal machine photoresist residual removal-85
product semiconductor industry rie plasma pr removal machine photoresist residual removal-86Top
×

Contactați-ne