Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

Acasă
Despre noi
Echipamente MH
Soluţie
Utilizatori de peste ocean
Video
Contact
Acasă> eliminare PR RTP USC
  • Semiconductor Wafer Plasma Photorezist Removing Machine PR Removal Equipment Serios
  • Semiconductor Wafer Plasma Photorezist Removing Machine PR Removal Equipment Serios
  • Semiconductor Wafer Plasma Photorezist Removing Machine PR Removal Equipment Serios
  • Semiconductor Wafer Plasma Photorezist Removing Machine PR Removal Equipment Serios
  • Semiconductor Wafer Plasma Photorezist Removing Machine PR Removal Equipment Serios
  • Semiconductor Wafer Plasma Photorezist Removing Machine PR Removal Equipment Serios
  • Semiconductor Wafer Plasma Photorezist Removing Machine PR Removal Equipment Serios
  • Semiconductor Wafer Plasma Photorezist Removing Machine PR Removal Equipment Serios
  • Semiconductor Wafer Plasma Photorezist Removing Machine PR Removal Equipment Serios
  • Semiconductor Wafer Plasma Photorezist Removing Machine PR Removal Equipment Serios
  • Semiconductor Wafer Plasma Photorezist Removing Machine PR Removal Equipment Serios
  • Semiconductor Wafer Plasma Photorezist Removing Machine PR Removal Equipment Serios

Semiconductor Wafer Plasma Photorezist Removing Machine PR Removal Equipment Serios România

descrierea produsului

PLASMA LOCAT Mașină de îndepărtare a fotorezistenților pentru plăci de semiconductor

Temperatura de procesare este scăzută și poate menține plasma sub presiune ridicată
DESCUM Curăţarea plachetelor Îndepărtarea umedă a fotorezist Îndepărtarea reziduurilor de suprafaţă Îndepărtarea reziduurilor de fotorezist după expunere şi dezvoltare
Semiconductor Wafer Plasma Photorezist Removing Machine PR Removal Equipment Furnizor serios
Semiconductor Wafer Plasma Photorezist Removing Machine PR Removal Equipment Furnizor serios
Semiconductor Wafer Plasma Photorezist Removing Machine PR Removal Equipment Fabricare serioasă
Semiconductor Wafer Plasma Photorezist Removing Machine PR Removal Equipment Furnizor serios
Semiconductor Wafer Plasma Photorezist Removing Machine PR Removal Equipment Detalii serioase
Semiconductor Wafer Plasma Photorezist Removing Machine PR Removal Equipment Fabricare serioasă
Semiconductor Wafer Plasma Photorezist Removing Machine PR Removing Equipment Fabrica serioasa
Specificație
Sursa de PLASMA
RF
cuptor cu microunde
Alimentare
1000w
1250w
Domeniul de aplicare aplicabil
4 ~ 8 inch
4~8寸
Număr de felii de procesare unică
4 ~ 6 inch = 50 buc / 8 inch = 25 buc
4 ~ 6 inch = 50 bucăți/8 inch = 25 buc
Dimensiunile aspectului
1250x1630x1900mm
1250x1630x1900mm
Controlul sistemului
PC
PC
Nivel de automatizare
Auto
Auto
Fabrică
Semiconductor Wafer Plasma Photorezist Removing Machine PR Removal Equipment Furnizor serios
Semiconductor Wafer Plasma Photorezist Removing Machine PR Removal Equipment Fabricare serioasă
Detalii produs
Semiconductor Wafer Plasma Photorezist Removing Machine PR Removal Equipment Detalii serioase
Ambalare și livrare
Semiconductor Wafer Plasma Photorezist Removing Machine PR Removing Equipment Fabrica serioasa
Profilul companiei
16 ani de experiență în exportul de echipamente! Vă putem oferi o soluție unică pentru procese și echipamente de procese și echipamente front/back-stop!
Semiconductor Wafer Plasma Photorezist Removing Machine PR Removal Equipment Fabricare serioasă
Semiconductor Wafer Plasma Photorezist Removing Machine PR Removal Equipment Detalii serioase
Semiconductor Wafer Plasma Photorezist Removing Machine PR Removal Equipment Fabricare serioasă
Semiconductor Wafer Plasma Photorezist Removing Machine PR Removal Equipment Detalii serioase
Semiconductor Wafer Plasma Photorezist Removing Machine PR Removal Equipment Fabricare serioasă

Anchetă

Anchetă E-mail WhatsApp WeChat
Top
×

Contactați-ne