Фотолитографический установочный станок , China Фотолитографический установочный станок Manufacturers, Suppliers, Factory

Описание продуктов

Машина литографии с масочной установкой

Масочный выравниватель主要用于 разработке и производстве малых и средних интегральных схем, полупроводниковых компонентов, оптоэлектронных устройств, поверхностных акустических волновых устройств, тонкопленочных цепей и силовых электронных устройств
Масочный выравниватель, также известный как: машина для масочной выравнивающей экспозиции, система экспозиции, литографическая система и т.д., является основным оборудованием для производства чипов. Она использует технологию, схожую с фотопечатью, чтобы напечатать мелкие узоры с маски на кремниевый диск с помощью световой экспозиции.
Основные компоненты: высокоточный рабочий стол для выравнивания, бинокулярный микроскоп с разделённым полем зрения вертикального типа, бинокулярный микроскоп с разделённым полем зрения горизонтального типа, цифровая камера, компьютерная система обработки изображений и памяти, многоточечный источник света («летающий глаз») с головкой для экспозиции, система управления PLC, пневматическая система, вакуумная система, непосредственно подключаемый вакуумный насос, вторичный противовибрационный рабочий стол и аксессуары.

Aligner /Alignment Machine photolithography manufacture

Aligner /Alignment Machine photolithography factory

Характеристика

1. Высокая равномерность головки экспозиции «летающий глаз» / механизм воздушной подушки для выравнивания / надёжная вакуумная фиксация при экспозиции. Высокое разрешение.
2. Метод выравнивания с использованием маски обеспечивает стабильность и подачу субстрата, что гарантирует согласованность силы направляющего воздействия и усилия.
3. Использование бесщелевых линейных направляющих обеспечивает высокую точность и быструю скорость.
4. Все модели подходят для работы со всеми стандартными фотоэлектронами, такими как AZ, Shipley, SU 8.
5. Все модели передают качество рисунка на субстрате после 5 применений масок таким же, как качество рисунка после применения первой маски.
6. Время экспозиции можно регулировать от 1 секунды до 1 часа. Точность выравнивания 1 мкм

Aligner /Alignment Machine photolithography supplier

Aligner /Alignment Machine photolithography details

Характеристики

Модель	MD-G25A	MD-G25D	MD-G31		MD-G33
Тип экспозиции	одна сторона			Двустороннее выравнивание и двусторонняя экспозиция
Режим воздействия	Контактный твердый, мягкий и бесконтактный приближенный
Количество головок экспонирования	1 головка экспонирования			2 головки экспонирования
Тип источника света	Сферическая ртутная лампа GCQ350						Головка экспонирования UV-LED
Метод охлаждения	Охлаждение воздухом
Область экспонирования	Φ100 мм	110×110мм	Φ100 мм		150мм×150мм
Режим воздействия	Совместимо с контактным твердым, мягким
Неоднородность экспонирования	Φ100мм<±3%<>	≤ ± 3%
Разрешающая способность экспонирования	2μm	1 μм
Интенсивность луча (365 нм)	≥6мВт/см²	≤40мВт/см²	≥5мВт/см²		0～30мВт/см²
Неоднородность луча	≤±4%	≤ ± 3%
Максимальный угол отклонения ультрафиолетового света	4°	3°
Диапазон освещения	≤Φ117мм	Φ117мм	≤Φ117мм		Спереди и сзади ≥ Φ115мм
Режим компенсации ошибки клина	Сферическая автоматическая компенсация			Автоматическое удаление		Трехточечная автоматическая компенсация
Ход осей X и Y	±4мм	±5мм	±4мм		±5 мм
Ход угла θ	±3°	≤5°	≤±5º		≤0.5°
Разрешение перемещения субстрата XYZ	0.5µm	0.3µm	0.3µm		0.01µm
Система микроскопа	Два одинарных микроскопа / Две CCD-камеры
Размер дисплея	15 дюймов
Разрешение системы изображения	2µm	1.5µm	1.5µm		1.5µm
Расстояние измерения между маской и субстратом	0.5 µm	0.3 µm
Диагональное измерение поверхности цели CCD	1/3, (6mm)						40мм～110мм
Настройка размера таблицы	≤ Квадрат 5*5 дюймов (настраиваемые спецификации)
Размер субстратов	Φ 100мм или квадрат 100*100мм	Квадрат 60*49.5мм	2”-4”		1"x1"-5"x5"
Толщина субстрата	1-3 мм	≤5 мм	1-3 мм		≤5 мм
Вакуумный насос	Без масла тишина (-0.07～-0.08 МПа)
Чистый сжатый воздух	≥0.4 МПа
Источник питания	AC 220В±10% 50Гц 1.5КВт
Класс чистого помещения	Класс 100
Температура чистого помещения	25℃±2℃
Относительная влажность чистого помещения	≤60%
Амплитуда вибрации чистого помещения	≤4μm
Размер оборудования	1300 ×720×1600мм				1500 ×800×1600мм
Вес оборудования	200КГ				280 кг

Для производства высокоточной системы выравнивания требуется практически идеальный точный механический процесс. Другая техническая проблема системы выравнивания — это микроскоп для выравнивания. Чтобы расширить поле зрения микроскопа, многие современные литографические машины используют освещение на основе светодиодов. Существует две системы выравнивания с функцией фокусировки. Она в основном состоит из двух систем наблюдения, направленных на основание микроскопа: одна пара окуляров и одна пара объективов (обычно литографическая машина предоставляет пользователю окуляры и объективы с разным увеличением). Функция системы выравнивания CCD заключается в том, чтобы увеличить метки выравнивания маски и образца и отобразить их на мониторе.

Этап обработки деталей является ключевой частью литографического оборудования, который состоит из общего движущегося этапа для маски и образца (XY), относительного движущегося этапа для маски и образца (XY), вращающегося этапа, механизма выравнивания образца, фокусирующего механизма образца, силиконового этапа, зажима маски и выдвижного этапа маски. Механизм выравнивания образца включает шаровое гнездо и полусферу. В процессе выравнивания сначала подается сжатый воздух к шаровому гнезду и полусфере, затем шаровое гнездо, полусфера и образец движутся вверх через фокусирующую ручку, чтобы выровнять образец относительно маски, после чего трехходовой электромагнитный клапан переключает шаровое гнездо и полусферу на вакуум для блокировки и поддержания состояния выравнивания.

Minder-Hightech представляет вам передовую технологию фотолитографии через Aligner/Alignment Machine.

Вы сталкиваетесь с недостаточной точностью при печати цепей на ваших электронных продуктах? С помощью установочного аппарата Minder-Hightech вы можете быть уверены, что достигнете высокой точности в производстве печатных схем.

С этим революционным устройством вы можете легко перенести изображение высокого разрешения на продукт с использованием фотолитографии. Данная машина гарантирует точность благодаря системе выравнивания материала относительно изображения.

После того как изображения были напечатаны и загружены, машина рассчитывает необходимое количество экспозиции и то, как материал выровнен относительно изображений. Этот расчет выполняется с использованием последнего компьютерного программного обеспечения, которое может обновляться для соответствия технологическому развитию в производственной отрасли.

Это позволит вам создавать широкий спектр продукции, включая микросхемы, радиочастотные (RF) цепи и встроенные схемы. Устройство может обеспечить наилучшую глубину травления, ширину дорожки и совмещение слоев за счет добавления различных дополнительных процедур, таких как химическое травление и электроосаждение.

Преимущество нашего продукта заключается в его способности обеспечивать высокую точность совмещения, что гарантирует, что рисунки располагаются на материале с большой точностью. Вы можете легко печатать множество сложных дизайнов без каких-либо искажений.

Устройство простое в использовании, компактное и эффективное, что делает его подходящим для различных производственных площадок или размеров компании. Кроме того, наше оборудование поставляется с руководством по обслуживанию и обучением на месте с нашей командой технической поддержки.

Устройство для выравнивания Minder-Hightech использует технологию фотолитографии, чтобы помочь вам достичь наилучших результатов при печати ваших цепей. Ощутите новый уровень технологии, которая предлагает высокую точность и точность, которые не могут быть достигнуты традиционными методами печати. Устройство для выравнивания Minder-Hightech — это то, что вашей производственной компании нужно для того, чтобы оставаться впереди конкурентов. Свяжитесь с нами сегодня, чтобы воспользоваться преимуществами лучшей технологии выравнивания на рынке.