Оборудование CVD для графена и углеродных нанотрубок / Оборудование для полупроводниковой промышленности , China Оборудование CVD для графена и углеродных нанотрубок / Оборудование для полупроводниковой промышленности Manufacturers, Suppliers, Factory

Описание продукта

Оборудование CVD для материалов графена и углеродных нанотрубок

Оборудование主要用于 процессного покрытия графена и наноматериалов; Диффузия, окисление и отжиг поликристаллического кремния и карбида кремния.

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment details

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment factory

Характеристики

конструктивный стиль	Горизонтальный, однотрубная или многотрубная система автоматического управления
Соответствие размеру пластины	2-8″
Метод подачи и извлечения пластин	Автоматический кантелеверный кварцевый толкающий механизм лодки с комбинированным ручным захватом и освобождением чипов.
Максимальная температура	1050℃
Рабочая температура	400 ℃~850 ℃ непрерывно регулируемая
Стабильность температуры в одной точке	400℃~850℃≤±0.5℃/24ч
Системный предельный вакуум	Лучше 1Па
скорость откачки	Время откачки до предельного вакуума < 15мин
диапазон рабочего давления	От 5Па до 1 × 105Па непрерывно регулируемое
Источник питания	Трехфазный пятипроводной 380В±10%, 50Гц
Охлаждающая вода	2~4 кгс/см², 8 л/мин;

Упаковка и доставка

Профиль компании

У нас есть 16-летний опыт продаж оборудования. Мы можем предложить вам комплексное профессиональное решение для линий упаковки переднего и заднего края полупроводников из Китая.