Оборудование CVD для графеновых и углеродных нанотрубчатых материалов / Полупроводниковое оборудование, Китай Оборудование CVD для графеновых и углеродных нанотрубчатых материалов / Полупроводниковое оборудование Производители, Поставщики, Фабрика

Описание товара:

CVD-оборудование для материалов из графена и углеродных нанотрубок

Оборудование в основном используется для технологического покрытия графена и наноматериалов; Диффузия, окисление и отжиг поликристаллического кремния и карбида кремния.

CVD-оборудование для материалов из графена и углеродных нанотрубок / Завод полупроводникового оборудования

Спецификация

структурный стиль	Автоматическое управление горизонтальной, однотрубной или многотрубной системой.
Адаптация к размеру пластины	2-8 "
Способ доставки и извлечения пластин	Автоматический консольный кварцевый толкатель в сочетании с ручным приемом и выпуском стружки.
максимальная температура	1050 ℃
рабочая температура	400 ℃~850 ℃ с плавной регулировкой
Одноточечная температурная стабильность	400℃~850℃≤±0.5℃/24 часа
Предел вакуума системы	Лучше, чем 1 Па
скорость откачки	Время откачки для ограничения вакуума < 15 мин.
Диапазон рабочего давления	от 5 Па до 1 × 105 Па, плавная регулировка
Источник питания	3-фазный 5-проводной 380 В±10%, 50 Гц
охлаждающая вода	2~4 кгс/см², 8 л/мин;

Упаковка и доставка

О компании

Имеем 16-летний опыт продаж оборудования. Мы можем предоставить вам универсальное профессиональное решение по производству полупроводникового оборудования для переднего и заднего плана из Китая.