Система плазменного травления с индуктивной связью (ICP) Полупроводниковое оборудование, Китай Система плазменного травления с индуктивной связью (ICP) Полупроводниковое оборудование Производители, Поставщики, Фабрика

Описание товара:

Система индуктивного плазменного травления (ICP)

Система плазменного травления с индуктивной связью (ICP) Детали полупроводникового оборудования

Система плазменного травления с индуктивной связью (ICP) Поставщик полупроводникового оборудования

Система плазменного травления с индуктивной связью (ICP) Завод полупроводникового оборудования

Результат процесса

Кварц/кремний/решетчатое травление

Используя маску BR для травления кварцевых или кремниевых материалов, рисунок решетки имеет тончайшую линию до 300 нм, а крутизна боковой стенки рисунка близка к> 89 °, что может быть применено к 3D-дисплею, микрооптическим устройствам, оптоэлектронной связи, и т. д.

Травление соединений/полупроводников

Точный контроль температуры поверхности образца может хорошо контролировать морфологию травления материалов на основе GaN, GaAs, InP и металлов. Подходит для устройств с синими светодиодами, лазеров, оптической связи и других приложений.

Система плазменного травления с индуктивной связью (ICP) Производство полупроводникового оборудования

Травление материалов на основе кремния

он подходит для травления материалов на основе кремния, таких как Si, SiO2 и SiNx. Он может осуществлять травление линий кремния толщиной более 50 нм и травление глубоких отверстий кремния ниже 100 мкм.

Спецификация

Схема конфигурации проекта и структуры машины

Товар	MD150S-ICP	MD200S-ICP	MD150CS-ICP	MD200CS-ICP	MD300C-ICP
Размер продукта	≤6 дюймов	≤8 дюймов	≤6 дюймов	≤8 дюймов	Пользовательские≥12 дюймов
Источник питания SRF	0~1000W/2000W/3000W/5000WAdjustable,automatic matching\,13.56MHz/27MHz
Источник питания БРФ	0~300W/0~500W/0~1000WAdjustable, automatic matching,2MHz/13.56MHz
Молекулярный насос	Некоррозионный: 600/1300 (л/с)/по индивидуальному заказу.			Антикоррозийная защита: 600/1300 (л./с)/по индивидуальному заказу.		600/1300(л/с)/по индивидуальному заказу
Форвакуумный насос	Механический насос/сухой насос			Антикоррозионный сухой насос		Механический насос/сухой насос
Насос предварительной накачки	Механический насос/сухой насос			Механический насос/сухой насос
Давление процесса	Неконтролируемое давление/контролируемое давление 0-0.1/1/10 Торр
Тип газа	H2/CH4/O2/N2/Ar/SF6/CF4/ CHF3/C4F8/NF3/NH3/C2F6/Custom (До 12 каналов, отсутствие агрессивных и токсичных газов)			H2/CH4/O2/N2/Ar/SF6/CF4/CHF3/ C4F8/NF3/NH3/C2F6/Cl2/BCl3/HBr/ Пользовательский (до 12 каналов)
Газовая плита	0~5sccm/50sccm/100sccm/200sccm/300sccm/500sccm/1000sccm/Custom
LoadLock	Да нет			Да
Образец контроля температуры	10°C~Комнатная температура/-30°C~150°C/по индивидуальному заказу			-30°C~200°C/по индивидуальному заказу
Заднее гелиевое охлаждение	Да нет			Да
Футеровка технологической полости	Да нет			Да
Контроль температуры полых стенок	Нет/Комнатная температура - 60/120°C			Комнатная температура~60/120°C
Система контроля	Авто/пользовательский
Травильный материал	Кремниевая основа: Si/SiO2/ SiNx/SiC..... Органические материалы:PR/Органические фильм......			Кремниевая основа: Si/SiO2/SiNx/SiC III-V: InP/GaAs/GaN...... IV-IV: Карбид кремния II-VI: CdTe...... Магнитный материал/материал сплава Металлические материалы: Ni/Cr/Al/Cu/Au... Органические материалы: PR/Органическая пленка...... Глубокое травление кремния

Упаковка и доставка

О компании

Имеем 16-летний опыт продаж оборудования. Мы можем предоставить вам универсальное профессиональное решение по производству полупроводникового оборудования для переднего и заднего плана из Китая.