Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

главная страница
О НАС
MH Equipment
Решение
Зарубежные пользователи
видео
СВЯЖИТЕСЬ С НАМИ
Главная> PVD CVD ALD RIE ICP EBEAM
  • MDICP-5000F Полностью автоматическое оборудование для гравировки ICP / Оборудование для полупроводников с индуктивно связанной плазмой
  • MDICP-5000F Полностью автоматическое оборудование для гравировки ICP / Оборудование для полупроводников с индуктивно связанной плазмой
  • MDICP-5000F Полностью автоматическое оборудование для гравировки ICP / Оборудование для полупроводников с индуктивно связанной плазмой
  • MDICP-5000F Полностью автоматическое оборудование для гравировки ICP / Оборудование для полупроводников с индуктивно связанной плазмой

MDICP-5000F Полностью автоматическое оборудование для гравировки ICP / Оборудование для полупроводников с индуктивно связанной плазмой

Описание продукта

MDICP-5000F Полностью автоматический аппарат этчинга ИКП

MDICP-5000F Fully Automatic ICP Etching Machine / Semiconductor equipment Inductively Coupled Plasma factory
MDICP-5000F Fully Automatic ICP Etching Machine / Semiconductor equipment Inductively Coupled Plasma factory

Краткое содержание

Оборудование представляет собой двухкамерную вакуумную систему. Одна камера является камерой инъекции и отбора проб, а другая — камерой этчинга. Между камерой инъекции и отбора проб и камерой этчинга установлена вакуумная блокировка, и транспортировка инъекции и отбора проб осуществляется манипулятором.
Оборудование в основном состоит из вакуумной системы, газовой системы, электрической системы, системы управления, охлаждающей системы, механизма подачи и сматывания пленки, системы сигнализации и т.д.

вакуумная система

Система состоит из молекулярного насоса с производительностью 600 Л/с + импортного вакуумного сухого насоса с производительностью Л/с для откачки травильной камеры до высокого вакуума. Между молекулярным насосом и травильной камерой установлен электрический регулирующий клапан динамического давления. Импортный сухой насос является предварительным насосом травильной камеры и передним насосом молекулярного насоса. Используется еще один механический насос с производительностью Л/с для откачки образцовой камеры. Для соединения между механическим насосом и вакуумной камерой, а также молекулярным насосом используются нержавеющие резиновые муфты, и установлен электромагнитный пневматический блокирующий клапан.

Система постоянного давления

Оборудование оснащено системой управления постоянным давлением на выходе, а в трубопроводе отвода воздуха установлен электрический регулируемый клапан. Через измерение пленочного манометра (импортные компоненты) управляется регулирующий клапан, чтобы сделать вакуумную камеру с постоянным давлением, что повышает процесс стабильности.

Система постоянного давления

Оборудование оснащено системой управления постоянным давлением на выходе, а в трубопроводе отвода воздуха установлен электрический регулируемый клапан. Через измерение пленочного манометра (импортные компоненты) управляется регулирующий клапан, чтобы сделать вакуумную камеру с постоянным давлением, что повышает процесс стабильности.

Газовая система

Два комплекта ИМП с автоматическим согласованием.

система оповещения

Требования безопасности к оборудованию.
Характеристики
Имя
СПЦ
Бренд
Номер\/Штук
Заметка
Камера травления, трубопровод откачки, окно наблюдения, резервный интерфейс и т.д.
Стандарт
JSWN
1
Противокоррозийный
Стойка, электрический шкаф, уплотнители, стандартные детали и т.д.
Стандарт
JSWN
1
Система подъема крышки камеры травления
Стандарт
JSWN
1
Противокоррозийный
Электрод для травления и система охлаждения
Стандарт
JSWN
1
Противокоррозийный
Молекулярный насос (скорость откачки 600 Л/с)
FF620/150
KYKY
1
Противокоррозийный
Входной сухой насос (скорость откачки 9 Л/с)
XDS-35I
Edwards
1
Противокоррозийный
Механический насос (скорость откачки 9 Л/с)
TRP-36
BWVAC
1
Электрический регулирующий шиберный клапан
DCQ-150
JSWN
1
Противокоррозийный
Пневматический мембранный клапан
KF40
JSWN
3
Противокоррозийный
Пленочный манометр
KF16
INFICON
1
Противокоррозийный
Контроллер массового расхода
D07
Sevenstar
4
Противокоррозийный
Пневматический диафрагменный клапан
1/4″VCR
-
4
Противокоррозийный
Нержавеющая стальная труба, трубная фитинг и т.д.
1/4″VCR
-
4
Противокоррозийный
Источник питания РЧ / автоматический согласующий преобразователь
-
Китай (Необязательно CROWN1310)
1
Источник питания РЧ / автоматический согласующий преобразователь
-
Китай (Необязательно CROWN1310)
1
Составной вакуумметр
ZDF
RB
1
IPC
2u
Китай
1
сенсорный ЖК-экран
17 дюймов
Китай
1
ПЛК-система управления
S7-200
Сименс
1
Система управления электроприводом
Стандарт
JSWN
1
Система обнаружения охлаждающей воды и трубопровод
Стандарт
JSWN
1
Система обнаружения сжатого воздуха и трубопровод
Стандарт
JSWN
1
Машина для циркуляции охлаждающей воды
hx
Китай
1
Камера инъекции для травления
Стандарт
JSWN
1
Вакуумный замок
СМК
СМК
1
Система управления манипулятором
СМК
СМК
1

Технический параметр почты

1. Предельный вакуум: камера травления 9.0×10-5Па (внутренняя влажность ≤55%)
Камера инъекции образцов 6.0×10-1Па
2. Материал для травления: материалы III, V группы, Si, SiO2 и т.д.
3. Скорость травления: ~ 1мкм/мин
4. Равномерность травления: ≤±5% (диапазон φ125мм)
6. Размер электрода: φ200мм
Упаковка и доставка
MDICP-5000F Fully Automatic ICP Etching Machine / Semiconductor equipment Inductively Coupled Plasma factory
MDICP-5000F Fully Automatic ICP Etching Machine / Semiconductor equipment Inductively Coupled Plasma factory
Для лучшего обеспечения безопасности ваших товаров будут предоставлены профессиональные, экологически чистые, удобные и эффективные услуги упаковки.
Профиль компании
У нас есть 16-летний опыт продаж оборудования. Мы можем предложить вам комплексное профессиональное решение для линий упаковки переднего и заднего края полупроводников из Китая.
MDICP-5000F Fully Automatic ICP Etching Machine / Semiconductor equipment Inductively Coupled Plasma factory
MDICP-5000F Fully Automatic ICP Etching Machine / Semiconductor equipment Inductively Coupled Plasma factory
MDICP-5000F Fully Automatic ICP Etching Machine / Semiconductor equipment Inductively Coupled Plasma supplier

Запрос

Запрос Email WhatsApp WeChat
Top
×

Свяжитесь с нами