1. Тип экспонирования: односторонний.
2. Площадь экспонирования: 110×110 мм.
3. Неравномерность освещения при экспонировании: ≤±3%.
4. Интенсивность экспонирования: 0-30 мВт/см² регулируемая.
5. Угол пучка УФ: ≤3°.
6. Центральная длина волны ультрафиолета: 365 нм.
7. Срок службы источника УФ-излучения: ≥500 часов.
8. Использование электронного затвора.
9. Разрешение экспонирования: 1 мкм;
10. Диапазон микроскопического сканирования: X: ±15 мм Y: ±15 мм;
11. Диапазон выравнивания: корректировка X, Y ±4 мм; корректировка направления Q ±3°;
12. Точность гравировки: 1 мкм. Точность версии и чипа пользователя должна соответствовать государственным нормативам,
а также окружающая среда, температура, влажность и пыль могут быть строго контролируемыми. Используется импортный положительный фоторезист, толщина которого может быть строго контролируемой. Кроме того, передовые процессы на предварительных и последующих этапах;
13. Количество разделения: регулируется от 0 до 50 мкм;
14. Метод экспонирования: близкий контакт, который может обеспечить жесткий контакт, мягкий контакт и контакт с минимальным усилием; 15. Формула поиска квадрата: воздух