Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
EN
Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
Получить цену

Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

главная страница
О НАС
MH Equipment
Решение
Зарубежные пользователи
видео
СВЯЖИТЕСЬ С НАМИ
Главная> PVD CVD ALD RIE ICP EBEAM
  • Оборудование для плазменного химического осаждения из газовой фазы (PECVD) / Процесс высокотемпературного PECVD
  • Оборудование для плазменного химического осаждения из газовой фазы (PECVD) / Процесс высокотемпературного PECVD
  • Оборудование для плазменного химического осаждения из газовой фазы (PECVD) / Процесс высокотемпературного PECVD
  • Оборудование для плазменного химического осаждения из газовой фазы (PECVD) / Процесс высокотемпературного PECVD
  • Оборудование для плазменного химического осаждения из газовой фазы (PECVD) / Процесс высокотемпературного PECVD
  • Оборудование для плазменного химического осаждения из газовой фазы (PECVD) / Процесс высокотемпературного PECVD

Оборудование для плазменного химического осаждения из газовой фазы (PECVD) / Процесс высокотемпературного PECVD

Получить бесплатную консультацию
Описание продукта

Оборудование для плазменного химического осаждения с подогревом (PECVD)

◆ Полный автоматический контроль времени процесса, температуры, потока газа, действия клапанов и давления в реакционной камере осуществляется
промышленным компьютером.
◆ Используется импортированная система управления давлением и замкнутая система, обеспечивающие высокую стабильность.
◆ Применяются импортные коррозионностойкие нержавеющие стальные трубопроводы и клапаны для обеспечения герметичности газовой цепи.
◆ Обладает совершенной функцией оповещения и системой безопасности с блокировкой.
◆ Имеет функцию оповещения о сверхвысокой температуре, оповещение о недостаточной температуре, оповещение MFC, оповещение о давлении в реакционной камере, оповещение RF, оповещение о низком давлении сжатого воздуха, оповещение о низком давлении N2 и оповещение о низком расходе охлаждающей воды.
◆ Существующий PECVD после модернизации обладает функцией роста пленки SiO2, что решает проблему PID у батарейного модуля. Может расти пленка SiNxOy (процесс обратной пассивации), что значительно повышает КПД батареи.
PECVD Plasma enhanced chemical vapor deposition equipment / High temperature PECVD process supplier
PECVD Plasma enhanced chemical vapor deposition equipment / High temperature PECVD process details
PECVD Plasma enhanced chemical vapor deposition equipment / High temperature PECVD process factory

ТИП

◆ Количество загрузки: 384 штук/лодка (125 * 125); 336 штук/лодка (156 * 156)
◆ Чистота очистительного стола: Класс 100 (завод класса 10000)
◆ Степень автоматизации: автоматическое управление температурой и процессом.
◆ Режим отправки и приема чипов: тип мягкого приземления, с устойчивыми и надежными характеристиками, без ползучести, точное позиционирование, большая грузоподъемность и длительный срок службы.
Характеристики
Максимальная загрузка на трубу
384 штуки/лодка (125*125)
336 штук/лодка (156*156)
Индекс процесса
± 3% в таблетке, ± 3% между таблетками, ± 3% между партиями
Рабочая температура
200~500℃
Точность и длина зоны температуры (статический закрытый тест трубы)
1200мм±1℃
Точность потока газа
±1% от опорного значения
Герметичность воздушной цепи системы
1×10-7Па·м³/С
Контроль
Полностью импортированная автоматическая система закрытого цикла регулирования давления, точный контроль вакуума реакции; 40КГц высокочастотное питание; Мягкая посадка шлюпки; Полный цифровой контроль, идеальная и безопасная защита процесса управления.
Предлагаются варианты с 1, 2, 3 или 4 трубами; Опциональный автоматический погрузочный манипулятор, производительность оборудования и процессов может конкурировать с ведущими аналогичными установками мира.
1 труба, 2 трубы, 3 трубы и 4 трубы являются опциями; Автоматический загрузочный манипулятор является опцией, производительность оборудования
и процессуальная производительность могут сравниться с ведущими аналогичными устройствами в мире.
Упаковка и доставка
PECVD Plasma enhanced chemical vapor deposition equipment / High temperature PECVD process factory
PECVD Plasma enhanced chemical vapor deposition equipment / High temperature PECVD process manufacture
Для лучшего обеспечения безопасности ваших товаров будут предоставлены профессиональные, экологически чистые, удобные и эффективные услуги упаковки.
Профиль компании
У нас есть 16-летний опыт продаж оборудования. Мы можем предложить вам комплексное профессиональное решение для линий упаковки переднего и заднего края полупроводников из Китая.

Больше продуктов

Запрос

Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. All Rights Reserved

Политика конфиденциальности

Запрос Email WhatsApp WeChat
Top
×

Свяжитесь с нами