Товар |
MD150-RIE |
MD200-RIE |
MD200C-RIE |
||
Размер продукта |
≤6 дюймов |
≤8 дюймов |
≤8 дюймов |
||
Источник РЧ мощности |
0-300Вт/500Вт/1000Вт Настройка, автоматическое согласование |
||||
Молекулярный насос |
-\/620(Л\/с)\/1300(Л\/с)\/На заказ |
Антисептик620(Л\/с)\/1300(Л\/с)\/На заказ |
|||
Вакуумный насос |
Механический насос\/сухой насос |
Сухой насос |
|||
Процессное давление |
Неконтролируемое давление\/0-1Torr контролируемое давление |
||||
Тип газа |
H\/CH4\/O2\/N2\/Ar\/SF6\/CF4\/ CHF3\/C4F8\/NF3\/На заказ (До 9 каналов, без коррозионных и токсичных газов) |
H2\/CH4\/O2\/N2\/Ar\/F6\/CF4\/ CHF3\/C4F8\/NF3\/Cl2\/BCl3\/HBr(До 9 каналов) |
|||
газовая диапазона |
0~5ccm\/50ccm\/100ccm\/200ccm\/300ccm\/500ccm\/на заказ |
||||
LoadLock |
Да\/Нет |
Да |
|||
Управление температурой образца |
10°C~Температура помещения/-30°C~100°C/По запросу |
-30°C~100°C/По запросу |
|||
Обратное охлаждение гелием |
Да\/Нет |
Да |
|||
Облицовка процессуальной камеры |
Да\/Нет |
Да |
|||
Контроль температуры стенок камеры |
Нет/Температура помещения~60/120°C |
Температура помещения-60/120°C |
|||
Система управления |
Автоматический/По запросу |
||||
Этching материал |
На основе кремния: Si/SiO2/SiNx··· IV-IV: SiC Магнитные материалы/сплавы Металлический материал: Ni/Cr/Al/Au..... Органический материал: PR/PMMA/HDMS/Органика пленка...... |
На основе кремния: Si/SiO2/SiNx...... III-V (прим.3): InP/GaAs/GaN...... IV-IV: SiC II-VI (прим.3): CdTe...... Магнитные материалы/сплавы Металлический материал: Ni/Cr/A1/Au...... Органический материал: PR/PMMA/HDMS /органическая пленка... |
Применяется для травления труднообрабатываемых материалов, таких как некоторые металлы (например, Ni/Cr) и керамика, а также для реализуется паттернированное травление материалов за счет физического облучения. |
Используется для травления и удаления органических соединений, таких как фоторезист (PR)/PMMA/HDMS/полимер |
Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. All Rights Reserved