Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

главная страница
О НАС
MH Equipment
Решение
Зарубежные пользователи
видео
СВЯЖИТЕСЬ С НАМИ
Главная> Удаление PR RTP USC
  • Полупроводниковая промышленность Кассетный тип Пакетный плазменный аппарат для удаления PR Удаление остатков фото-resist
  • Полупроводниковая промышленность Кассетный тип Пакетный плазменный аппарат для удаления PR Удаление остатков фото-resist
  • Полупроводниковая промышленность Кассетный тип Пакетный плазменный аппарат для удаления PR Удаление остатков фото-resist
  • Полупроводниковая промышленность Кассетный тип Пакетный плазменный аппарат для удаления PR Удаление остатков фото-resist
  • Полупроводниковая промышленность Кассетный тип Пакетный плазменный аппарат для удаления PR Удаление остатков фото-resist
  • Полупроводниковая промышленность Кассетный тип Пакетный плазменный аппарат для удаления PR Удаление остатков фото-resist
  • Полупроводниковая промышленность Кассетный тип Пакетный плазменный аппарат для удаления PR Удаление остатков фото-resist
  • Полупроводниковая промышленность Кассетный тип Пакетный плазменный аппарат для удаления PR Удаление остатков фото-resist
  • Полупроводниковая промышленность Кассетный тип Пакетный плазменный аппарат для удаления PR Удаление остатков фото-resist
  • Полупроводниковая промышленность Кассетный тип Пакетный плазменный аппарат для удаления PR Удаление остатков фото-resist
  • Полупроводниковая промышленность Кассетный тип Пакетный плазменный аппарат для удаления PR Удаление остатков фото-resist
  • Полупроводниковая промышленность Кассетный тип Пакетный плазменный аппарат для удаления PR Удаление остатков фото-resist

Полупроводниковая промышленность Кассетный тип Пакетный плазменный аппарат для удаления PR Удаление остатков фото-resist

Описание продукта

Кассетный тип Пакетная плазменная установка для удаления ПР

DESCUM
Очистка пластины
Удаление остатков клея после влажной обработки
Удаление остатков с поверхности
Удаление остатков клея после экспонирования и проявления
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal manufacture
Процесс
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal manufacture
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal details
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal details
Преимущество:

Основное преимущество

Высокая степень дегуммирования: Плазма высокой плотности, быстрая скорость дегуммирования
Стабильность: После плазменной обработки высокая воспроизводимость
Удаленная плазма: Удаленная плазма, низкий ионный ущерб пластине
Программное обеспечение: Независимое исследование и разработка программного обеспечения, интуитивная процессная анимация, подробные данные и записи
Единообразие: Плазма может контролировать давление и температуру через бабочковый клапан
Фактор безопасности: Низкая плазма снижает повреждение при разряде продукта.
Служба послепродажного обслуживания: Быстрый отклик и достаточный запас товаров
Контроль пыли: Соответствует требованиям клиентов.
Основная технология: Почти 40% членов команды отдела исследований и разработок

Платформа кассет (MD-ST 6100/620)

1. 4 Кассеты для пластины
2. Высокая совместимость: гибкость выбора размера пластины обеспечивает высокую эффективность затрат и решения
3. Комнатная камера с высокой устойчивостью вакуума:
Зрелый и стабильный дизайн передачи вакуума успешно применяется на рынке в течение многих лет и высоко оценивается клиентами.
Дизайн поворотного стола, компактное пространство, значительно снижает риск ПАРТИКЛА
4. Эргономичный интерфейс программного обеспечения:
Интуитивно понятный эргономичный интерфейс программного обеспечения, реальное время мониторинга состояния работы машины;
Полная система тревоги и защиты от дурака для предотвращения ошибочных операций.
Мощная функция экспорта данных, записи различных параметров процесса и выгрузки записей производства продукции.
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal manufacture
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal factory

Робот

1. Одновременный дизайн захвата и размещения двух пластин увеличивает производительность
2. Улучшение эффективности использования пространства.
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier

Отопительная плита

1. Высокоточный контроль температуры пластинки wafer
Плата для нагрева wafer от комнатной температуры до 250°C, точность контроля температуры ±1°C
Плата для нагрева wafer была калибрована профессиональными приборами, и равномерность. В пределах ±3°C, гарантирует равномерное удаление клея
2. Обработка двух пластин wafer в одной камере
Дизайн с двумя пластинами wafer в одной камере;
Независимый выпуск мощности для каждой пластины wafer, гарантирующий эффект удаления PR по кругу для каждой пластины;
При обеспечении эффективности UPH снижается стоимость продукции. Высокая совместимость
3. Производственная мощность: реакционная камера с двойным дизайном, высокая производительность.
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Характеристики
Источник плазмы
rF
Микроволновая печь
Мощность
1000 Вт
1250вт
Область применения
4~8 дюймов
4~8 дюймов
Количество обрабатываемых срезов
4~6 дюймов = 50 штук\/8 дюймов = 25 штук
4~6 дюймов = 50 штук\/8 дюймов = 25 штук
Габаритные размеры
1250x1630x1900мм
1250x1630x1900мм
управление системой
ПК
ПК
Уровень автоматизации
Авто
Авто
Возможности оборудования
Наработка на отказ/Доступное время
≧95%
Среднее время очистки (MTTC)
≦6 часов
Среднее время восстановления (MTTR)
≦4 часа
Среднее время между отказами (MTBF)
≧350 часов
Среднее время между помощником (MTBA)
≧24 часа
Средняя пластинка между поломками (MWBB)
≦1 на 10 000 пластинок
Контроль нагревательной панели
50-250°
Отчет о тестировании
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal manufacture
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal details
Вид на фабрику
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Упаковка и доставка
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal details
Профиль компании
У нас есть 16 лет опыта в продаже оборудования. Мы можем предложить вам комплексное решение по оборудованию для передней и задней части линии упаковки полупроводников из Китая!
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal manufacture

Запрос

Запрос Email WhatsApp WeChat
Top
×

Свяжитесь с нами