Установка для удаления фотолака плазмой с полупроводниковых пластин Serious , China Установка для удаления фотолака плазмой с полупроводниковых пластин Serious Manufacturers, Suppliers, Factory

Описание продукта

BATCH PLASMA Установка для удаления фотолака с полупроводниковых пластин

Температура обработки низкая и может поддерживать плазму при высоком давлении

DESCUM Очистка пластины Влажное удаление фотолака Удаление остатков на поверхности Удаление остатков фотолака после экспонирования и проявления

Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious supplier

Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious manufacture

Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious details

Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious factory

Характеристики

Источник плазмы	RF	микроволновая печь
Мощность	1000 Вт	1250вт
Область применения	4~8 дюймов	4~8 дюймов
Количество обрабатываемых срезов	4~6 дюймов = 50 штук\/8 дюймов = 25 штук	4~6 дюймов = 50 штук\/8 дюймов = 25 штук
Габаритные размеры	1250x1630x1900мм	1250x1630x1900мм
Управление системой	ПК	ПК
Уровень автоматизации	Авто	Авто

Производство

Детали продукта

Упаковка и доставка

Профиль компании

16 лет опыта в экспорте оборудования! Мы можем предложить вам комплексное решение для процессов и оборудования в передней и задней частях полупроводникового производства!