PAGTATANONG DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine , China PAGTATANONG DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine Mga Manufacturer, Supplier, Pabrika

Paglalarawan ng produkto

ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine

Ang ICP dry plasma photoresist removal machine ay pangunahing ginagamit para sa pag-alis ng mga polymer, ASHING, DESCUM, photoresist removal pagkatapos ng ion implantation, at surface residue removal. Ang lukab ay angkop para sa 4-8 pulgadang mga sample, na may 1-2 piraso na naproseso sa isang proseso.

ASHING
Pag-alis ng polimer
Tuyong pag-alis ng matigas na layer ng maskara
Pag-alis ng photoresistance pagkatapos ng ion implantation
Pag-alis ng photoresistance sa proseso ng BAW/SAW
Dry cleaning ng anti reflective graphic film layer
Pag-alis ng nalalabi sa ibabaw
Paglilinis ng ibabaw pagkatapos ng pag-ukit
DESCUM

PAGTATANONG DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine mga detalye

PAGTATANONG DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine factory

detalye

PLASMA			RF	RF
kapangyarihan	ICP	1000w	1000w
kapangyarihan		BIAS	600w(pagpipilian)	600w(pagpipilian)
Naaangkop na saklaw			4~8寸	4~8寸
Iisang pagpoproseso ng slice count			1	2
Mga sukat ng hitsura			1080x1840x1800mm	1340x2050x1800mm
Kontrol ng system			Sistema ng kontrol sa industriya	Sistema ng kontrol sa industriya
Antas ng automation			awtomatik	awtomatik

Pabrika

Produkto detalye

Pag-iimpake at Paghahatid

Profile ng Kompanya

16 na taong karanasan sa pag-export ng kagamitan! Maaari kaming magbigay sa iyo ng isang one-stop na Semiconductor Front End na Mga Proseso at solusyon sa Kagamitan!